[实用新型]一种高密度光波导结构及印制电路板

权利要求书

1.一种高密度光波导结构，其特征在于，依次包括下包层、芯层、上包层；其中，所述下包层内间隔设置若干沟槽，沟槽内填充光波导材料，形成芯层。

2.如权利要求1所述的高密度光波导结构，其特征在于，所述的下包层内的沟槽内壁设有一层反射膜。

3.如权利要求2所述的高密度光波导结构，其特征在于，所述的反射膜的厚度在0.1nm～50μm。

4.如权利要求1所述的高密度光波导结构，其特征在于，所述下包层内的沟槽纵截面形状为圆形、椭圆形、三角形、梯形或矩形。

5.如权利要求1所述的高密度光波导结构，其特征在于，所述光波导材料为丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生的氟化物、环氧树脂、含氟聚芳醚、氟化聚酰亚胺、聚硅氧烷、氟化树状超分子和氟化分枝聚合物。

6.如权利要求2或3所述的高密度光波导结构，其特征在于，所述的反射膜的材料与光波导材料相同，或为金属。

7.一种包含如权利要求1所述的高密度光波导结构的印制电路板，其特征在于，包括光波导结构及其下分别依次设第一线路层、介电层、第二线路层、阻焊层和表面处理层；其中，介电层中设填充导电介质的孔。

8.如权利要求7所述的高密度光波导结构的印制电路板，其特征在于，所述介电层材料为环氧树脂、聚酰亚胺、聚马来酰亚胺三嗪树脂、聚苯醚或聚四氟乙烯、玻璃、石英或氧化硅。

9.如权利要求7所述的高密度光波导结构的印制电路板，其特征在于，所述或电镀镍钯金。