[实用新型]一种克尔效应测量装置

说明书

本实用新型涉及光学技术测量的电磁检测领域，一种克尔效应测量装置，包括激光器I、偏振器、凸透镜I、透镜台、原子力显微镜、探针、样品、样品台、磁铁、信号发生器、示波器、凸透镜II、光弹调制器、半波片I、斩波器、激光器II、凸透镜III、滤波片、半波片II、检偏器、光电探测器、锁相放大器I、锁相放大器II、计算机、入射光路I、入射光路II，探针中在zx平面内具有通孔I、通孔II和通孔III，通孔II的轴线沿所述圆台轴线方向，通孔I和通孔III的轴线分别位于所述通孔II轴线的两侧、且均与所述通孔II轴线成45度角，本实用新型能够对单个纳米结构进行测量，对样品表面的磁化动态的测量能达到亚微米量级的空间分辨率，降低背景信号，增加灵敏度。

技术领域

本实用新型涉及光学技术测量领域的一种电磁检测装置，尤其是一种基于泵浦一探测方法的一种克尔效应测量装置。

背景技术

磁光克尔效应测量装置是材料表面磁性研究中的一种重要手段，其工作原理是基于由光与磁化介质间相互作用而引起的磁光克尔效应，其不仅能够进行单原子层厚度材料的磁性检测，而且可实现非接触式测量，在磁性超薄膜的磁有序、磁各向异性、层间耦合和磁性超薄膜的相变行为等方面的研究中都有重要应用。磁光克尔效应测量装置主要是通过检测一束线偏振光在材料表面反射后的偏振态变化引起的光强变化进行样品表面的磁化观测。现有技术缺陷是：在现有技术中，使用泵浦-探测方法来获得时间分辨的克尔信号的实验中，通常使用光弹调制器来改变泵浦光的偏振状态，但是，光弹调制器会发出与其工作频率相同频率的电磁辐射，因此其附近的二极管激光器等设备易受到电磁耦合干扰，特别是在探测光上的耦合，会导致背景信号的产生，且这个背景信号的漂移会限制探测信号的灵敏度，所述一种克尔效应测量装置能解决问题。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型采用高精度的定位装置来获得纳米尺度样品表面的磁化信息，采用特殊的原子力显微镜探针，能够对单个纳米结构进行磁光克尔效应测量。另外，采用泵浦-探测方法进行时间分辨的克尔信号测量，通过对泵浦光进行调制及特殊的相敏检测方法，降低光弹调制器发出的电磁辐射对其附近的二极管激光器等设备的电磁耦合干扰，降低背景信号，增加探测信号的灵敏度。

本实用新型所采用的技术方案是：