[实用新型]一种用于蚀刻液生产的清洗系统

说明书

本实用新型公开了一种用于蚀刻液生产的清洗系统，包括储液罐限位单元以及喷淋单元；所述储液罐限位单元包括横梁，在所述横梁上设置有竖直向下延伸的竖梁，在所述竖梁上设置有上横板、下横杆；在所述上横板上设置有悬挂装置，在所述下横杆上设置有支撑装置；所述喷淋单元包括并列竖直设置的第一喷管、第二喷管，所述第一喷管、第二喷管连接于一阀门。本实用新型结构简单，方便使用，能够有效提高对蚀刻液储液罐的清洗效率；通过第一喷管、第二喷管分开设置，从而使第一喷头能够进行直喷，第二喷头能够侧喷，使用时较为方便地向储液装置的罐底以及内侧壁进行喷淋清洗；通过旋拧的方式开启或者关闭阀门，非常方便，并且阀门不易损坏。

技术领域

本实用新型涉及一种用于蚀刻液生产的清洗系统，属于蚀刻液生产设备技术领域。

背景技术

蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。蚀刻液是一种铜版、锌版等印刷凹凸版雕刻用原料，通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。由于蚀刻液属于化学原料，因此在对每一种类蚀刻液进行储存时应避免进入杂质以及其他化学成分。蚀刻液通常存储于储液罐内，在向储液罐内灌入蚀刻液时应保持内部的清洁，避免储液罐内壁上附着有其他化学成分的材料残渣，因此需要对储液罐进行清洗。而现有的清洗都是通过工人手持清洗喷管插入到储液罐内进行喷淋清洗，清洗后的水则存留在储液罐内无法及时排出，只能等基本清洗完毕后将倾倒清洗罐，然后还必须进行二次清洗，非常麻烦；此外，由于喷管的喷头只能向前方进行直喷，无法进行侧喷，因此便于对储液罐的罐底清洗，但对于内侧壁的清洗却不是特别方便。

实用新型内容

因此，本实用新型的目的在于提供一种在向蚀刻液储液罐内部进行喷淋清洗过程中就能够使水及时流出的，并且能够同时进行直喷和侧喷以便于同时清洗储液罐的罐底和内侧壁的用于蚀刻液生产的清洗系统。

为了实现上述目的，本实用新型的一种用于蚀刻液生产的清洗系统，包括储液罐限位单元以及喷淋单元；所述储液罐限位单元包括横梁，在所述横梁上设置有竖直向下延伸的竖梁，在所述竖梁上设置有上横板、下横杆；在所述上横板上设置有悬挂装置，在所述下横杆上设置有支撑装置；所述悬挂装置包括吸盘碗，所述吸盘碗的碗口朝向下方设置，一竖直设置的螺杆固定在所述吸盘碗的上端，一压碗扣在所述吸盘碗上，并且所述压碗的边缘压住所述吸盘碗的碗口翻边，所述螺杆穿过所述压碗上的通孔，一螺母螺接于所述螺杆上，所述螺母包括竖直筒部以及位于竖直筒部上部的挡环部；在所述上横板上设置有用于所述竖直筒部穿过的穿孔；所述喷淋单元包括并列竖直设置的第一喷管、第二喷管，所述第一喷管、第二喷管连接于一阀门；所述阀门连接于入水管；所述第一喷管的上端部设置有第一喷头，所述第二喷管的侧壁上设置有若干第二喷头。