[实用新型]一种大型曝光机用可增加良率的改进结构有效

专利信息
申请号: 201820694109.3 申请日: 2018-05-10
公开(公告)号: CN208270940U 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 苏伟;王雷;王海峰;高荣亮;陆永荣 申请(专利权)人: 深圳市志凌伟业技术股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 马金华
地址: 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 真空泵 底板 改进结构 固定柱 曝光机 良率 活塞杆 联动杆 上框架 下玻璃 下框架 导气 后板 气缸 本实用新型 产品区域 两侧设置 密闭环境 曝光过程 外界环境 真空吸嘴 上玻璃 滑槽 膜材 下端 污染
【说明书】:

实用新型公开了一种大型曝光机用可增加良率的改进结构,包括机体、下玻璃和导气条,所述机体的上方左侧固定有真空泵,且真空泵的右侧安装有固定柱,所述固定柱的右下方设置有底板,且底板的上方安装有下框架,所述下玻璃固定于下框架的上方,所述固定柱的右侧安装有后板,且后板的上方固定有气缸,所述气缸的下端设置有活塞杆,且活塞杆的两侧固定有联动杆,所述联动杆的下方安装有上框架,且上框架的下方固定有上玻璃,所述底板的两侧设置有滑槽。该大型曝光机用可增加良率的改进结构设置有两个真空泵,真空泵可以利用真空吸嘴通过导气条将产品区域内的空气排走,使得膜材在密闭环境的曝光过程中能够避免受到外界环境的污染。

技术领域

本实用新型涉及大型曝光机技术领域,具体为一种大型曝光机用可增加良率的改进结构。

背景技术

曝光机是一种通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备,其工艺流程简单,生产效率高,制造成本低,广泛应用于半导体制造,光电电子,衍射光学等领域的精细印制和精度对准。

现有的曝光机通常不具备压紧部件,容易造成膜材翘曲产生不良作业造成曝光质量下降,严重时可能造成产品报废,且产品作业区域内密封性不好容易形成间隙造成光的散射导致实际曝光图文与底片相差较大图文不符,为此,我们提出一种大型曝光机用可增加良率的改进结构。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种大型曝光机用可增加良率的改进结构,以解决上述背景技术中提出的现有的曝光机通常不具备压紧部件,容易造成膜材翘曲产生不良作业造成曝光质量下降,严重时可能造成产品报废,且产品作业区域内密封性不好容易形成间隙造成光的散射导致实际曝光图文与底片相差较大图文不符的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种大型曝光机用可增加良率的改进结构,包括机体、下玻璃和导气条,所述机体的上方左侧固定有真空泵,且真空泵的右侧安装有固定柱,所述固定柱的右下方设置有底板,且底板的上方安装有下框架,所述下玻璃固定于下框架的上方,所述固定柱的右侧安装有后板,且后板的上方固定有气缸,所述气缸的下端设置有活塞杆,且活塞杆的两侧固定有联动杆,所述联动杆的下方安装有上框架,且上框架的下方固定有上玻璃,所述底板的两侧设置有滑槽,所述下框架的内部设置有定位凹槽,且定位凹槽的内侧固定有膨胀密封圈,所述膨胀密封圈的内侧安装有下玻璃,且下玻璃的两侧固定有夹具,所述膨胀密封圈的上方固定有真空吸嘴,且真空吸嘴的右侧设置有气压传感器,所述导气条安装于气压传感器的右侧。

优选的,所述真空泵通过导气条与真空吸嘴相连接,其设置有两个,且真空泵之间关于机体的竖直中心线相对称。

优选的,所述底板与滑槽之间构成活动结构,且底板与滑槽之间的尺寸相吻合。

优选的,所述下玻璃与上玻璃之间的尺寸面积相同,且上玻璃通过活塞杆和气缸构成升降结构。

优选的,所述联动杆与活塞杆和气缸之间构成一体化结构,且联动杆与上框架之间为焊接。

优选的,所述膨胀密封圈呈方形中空状结构,且膨胀密封圈的厚度与下玻璃的厚度相等。

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