[实用新型]真空磁控溅射镀膜设备除渣装置

说明书

本实用新型属于镀膜设备领域，涉及一种真空磁控溅射镀膜设备除渣装置。它解决了现有技术中除渣装置不能将溅射的废渣带出磁控溅射设备的技术问题。它包括溅射底板，以及嵌设在溅射底板中的传动滚轮，传动滚轮顶部延伸出溅射底板上表面，还包括除渣板，除渣板下表面设置有若干铲渣槽口，每个铲渣槽口连接有一个储渣腔室，铲渣槽口靠近储渣腔室的一侧设置有铲渣刮刀。与现有的技术相比，本实用新型有点在于，能方便地将高出于传动滚轮上表面的溅射废渣铲离溅射底板并带出溅射镀膜设备，从本质上解决溅射废渣划伤玻璃生表面的技术问题。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种真空磁控溅射镀膜设备除渣装置。

背景技术

目前，节能玻璃最为普遍高效的制备方法是真空磁控溅射镀膜。真空磁控溅射是指在真空环境下，将涂层材料作为阴极靶，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，将靶材原子或分子溅射到工件上形成沉积层的成膜技术。但是，在设备进行玻璃镀膜过程中，会出现溅射物堆积形成溅射残渣，当溅射残渣的厚度过大，溅射残渣会划伤玻璃表面，造成产品的报废。传统做法是对设备通入大气，将设备拆开，把底板取出进行清理，整个过程需要1至3天，大型真空磁控溅射镀膜设备属于贵重高投入设备，停机清理所致的时间成本较高，因此必须设计出一种可以去除底板上溅射残渣的装置，尽可能减少回气次数，缩短清理时间。目前，业内普遍使用的解决方式是铁板压实法，铁板压实法是通过滚轮来传送一张铁板到阴极靶材下，利用铁板的自重及其高硬度将溅射物压实，达到减少玻璃划伤的目的。

但是，铁板压实法治标不治本，没有根本解决问题，不能将溅射的废渣带出磁控溅射设备，当溅射物累积到一定厚度后，传送铁板压实法已经不再适用，仍需回气除渣。

发明内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种真空磁控溅射镀膜设备除渣装置，能方便地将镀膜设备中过厚的溅射残渣铲起并带出溅射镀膜设备，从本质上解决溅射残渣过厚而影响玻璃生产质量的问题。

为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：

本真空磁控溅射镀膜设备除渣装置，包括溅射底板，以及嵌设在溅射底板中的传动滚轮，传动滚轮顶部延伸出溅射底板上表面，还包括除渣板，所述的除渣板下表面设置有若干铲渣槽口，每个铲渣槽口连接有一个储渣腔室，所述的铲渣槽口靠近储渣腔室的一侧设置有铲渣刮刀。

在上述的真空磁控溅射镀膜设备除渣装置中，铲渣刮刀截面呈三角形，所述的铲渣刮刀远离储渣腔室的一侧设置有铲渣刃，所述的铲渣刮刀下刀面呈水平设置，所述的铲渣刮刀上刀面倾斜向上设置且远离铲渣刃的一侧与储渣腔室底面连接。

在上述的真空磁控溅射镀膜设备除渣装置中，铲渣槽口贯穿除渣板上下表面，所述的储渣腔室由除渣板上表面向下凹陷形成，所述的铲渣槽口的长度与铲渣刃的长度相同。

在上述的真空磁控溅射镀膜设备除渣装置中，铲渣刃与储渣腔室的长度相同，且铲渣槽口与储渣腔室的横截面呈等长的矩形。

在上述的真空磁控溅射镀膜设备除渣装置中，铲渣槽口成列等距设置，相邻两列铲渣槽口上的铲渣槽口沿除渣板的轴向相错设置，间隔一列铲渣槽口的两列铲渣槽口之间的距离小于铲渣槽口的长度。

在上述的真空磁控溅射镀膜设备除渣装置中，间隔一列铲渣槽口的两列铲渣槽口上的铲渣槽口一一对应且相互平行。

在上述的真空磁控溅射镀膜设备除渣装置中，每相邻两列铲渣槽口上的铲渣槽口沿除渣板的轴向上的投影有部分重合。

与现有的技术相比，本实用新型的优点在于：

1、除渣板跟随传动滚轮运动，有效铲除突出于传动滚轮的溅射废渣，缩短溅射底板的清理周期，可有效降低镀膜设备回气除渣的频率，提高了有效生产时间，降低了镀膜设备的损耗，极大降低了生产成本。