[实用新型]一种用于衰减全内反射色谱仪的上样装置

权利要求书

1.一种用于衰减全内反射色谱仪的上样装置，其特征在于所述上样装置为柱状的中空构件(1)固定安放在衰减全内反射色谱仪的ATR晶体支架板上，与ATR晶体支架板形成容纳腔(2)，其底端内切圆半径应大于ATR晶体反射表面的外切圆半径，且小于或等于顶端内切圆半径。

2.根据权利要求1所述的上样装置，其特征在于，所述中空构件(1)底端设有环状防漏部件(11)，其内环直径大于ATR晶体与ATR晶体支架板横切面直径，其底部与ATR晶体支架板紧密连接，阻止待测样品往容纳腔(2)外渗透。

3.根据权利要求2所述的上样装置，其特征在于，所述环状防漏部件(11)底部设有纹路，并与ATR晶体支架板表面纹路相咬合。

4.根据权利要求2所述的上样装置，其特征在于，所述中空构件(1)顶端设有带有加样孔(13)的顶盖(12)，其加样孔(13)直径应大于ATR晶体与ATR晶体支架板横切面直径，且加样孔(13)正对与ATR晶体反射表面顶端。

5.根据权利要求4所述的上样装置，其特征在于，所述顶盖(12)与中空构件(1)为一体件。

6.根据权利要求4所述的上样装置，其特征在于，所述加样孔(13)下面的中空构件(1)外壁设有手持部件(14)，便于安放或移除上样装置。

7.根据权利要求6所述的上样装置，其特征在于，所述手持部件(14)选自夹板式、把式、柄式或提式部件。

8.根据权利要求4所述的上样装置，其特征在于，所述加样孔(13)上设有盖片(15)盖住加样孔(13)。

9.根据权利要求8所述的上样装置，其特征在于，所述盖片(15)为封口膜制成。

10.根据根据权利要求1-9任意一项所述的上样装置,其特征在于，所述中空构件(1)由惰性材料制成。