[实用新型]溢流装置和显影系统有效

专利信息
申请号: 201820716061.1 申请日: 2018-05-14
公开(公告)号: CN208224722U 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 胡冬生 申请(专利权)人: 南昌欧菲显示科技有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 330013 江西省南昌*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 导流板组 排液管道 储液槽 导流管 溢流口 脏污物 进液管道 本实用新型 显影系统 溢流装置 伸入 线路表面 液体使用 液体通过 联通 抽取 残留 排污
【说明书】:

实用新型提供了一种溢流装置,包括储液槽、导流板组、进液管道和排液管道,进液管道和排液管道均与储液槽联通,且排液管道伸入储液槽内,排液管道顶部设有溢流口,导流板组安装于储液槽上,导流板组连接有导流管,导流管连接溢流口,液体通过进液管道进入储液槽,储液槽内的液体使用后在液面上形成脏污物,脏污物经导流板组收集,并经导流管流入溢流口,并经排液管道排走。通过将排液管道伸入储液槽内,并安装导流板组,导流板组的导流管与溢流口连接,导流板组收集脏污物后通过导流管以及排液管道流走,达到排污的作用,解决了液体重新抽取时含有脏污物而在线路表面残留的问题。本实用新型还提供了一种显影系统。

技术领域

本实用新型属于显影技术领域,尤其涉及一种溢流装置和显影系统。

背景技术

显影机理是将干膜中未曝光的部分的活性基团与稀碱溶液反应生成可溶解物质而溶解下来,干膜是一种高分子的化合物,它通过紫外线的照射后能够产和一种聚合反应形成一种稳定的物质附着于板面,从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能,干膜的主要成分包括粘结剂、单体、光引发剂、染料、增塑剂、增粘剂等,而其中大部分的成分都是疏水性质的,一旦从显影液中析出,就很容易凝结而形成脏污物,而这些脏污物极易漂浮在显影液表面,部分会随着机台的溢流口被排走,还有部分会伴随着显影液重新被抽取用于显影,脏污物在显影过程中容易残留在线路表面,阻挡蚀刻,容易在线路与线路之间留下导通的底铜,造成短路不良,有的底铜很少,电子测试无法测出,存在最终产品的可靠性风险,极易造成客户投诉。

实用新型内容

本实用新型的第一目的是提供一种溢流装置,以解决现有技术存在的脏污物被重新抽取而在线路表面残留的问题。

为实现本实用新型的第一目的,本实用新型提供了如下的技术方案:

第一方面,本实用新型提供了一种溢流装置,包括储液槽、导流板组、进液管道和排液管道,所述进液管道和所述排液管道均与所述储液槽联通,且所述排液管道伸入所述储液槽内,所述排液管道顶部设有溢流口,所述导流板组安装于所述储液槽上,所述导流板组连接有导流管,所述导流管连接所述溢流口,液体通过所述进液管道进入所述储液槽,所述储液槽内的液体使用后在液面上形成脏污物,所述脏污物经所述导流板组收集,并经所述导流管流入所述溢流口,并经所述排液管道排走。

通过将排液管道伸入储液槽内,并安装导流板组,导流板组的导流管与溢流口连接,导流板组收集脏污物后通过导流管以及排液管道流走,达到排污的作用,解决了液体重新抽取时含有脏污物而在线路表面残留的问题。

其中,所述储液槽包括底板和围合所述底板四周的侧板,所述排液管道设于所述底板上,并相对所述底板向所述储液槽内延伸第一高度。由于脏污物总是漂浮在液面上,设置排液管道具有第一高度,使得安装的导流板组也具有相对底板一定的高度,使得储液槽可储存一定容量的液体,而液面上的脏污物可被收集。

其中,所述进液管道设于所述底板上,并相对所述底板向所述储液槽内延伸第二高度,所述第二高度低于所述第一高度。设置进液管道具有第二高度,使得进液管道进液时,能扰动储液槽内更上层的液体,更利于脏污物的析出和向液面位置移动。

其中,所述导流板组包括第一挡板、第二挡板和托板,所述第一挡板和所述第二挡板连接并形成第一夹角,所述托板连接所述第一挡板和所述第二挡板,以使所述第一挡板、所述第二挡板和所述托板围合形成脏污物收集区域,所述导流管连接在所述托板上。通过第一挡板、第二挡板和托板形成脏污物收集区域,用于收集脏污物,导流管用于排走脏污物。

其中,所述导流管的轴向与所述托板平面呈第二夹角,以使设置所述导流管为竖直方向时,所述托板平面倾斜,并使所述托板在所述第一挡板和所述第二挡板连接位置的一端处于更低的位置,以容纳更多的脏污物。

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