[实用新型]用于局部调光的背光单元及光束控制部件有效
申请号: | 201820735409.1 | 申请日: | 2018-05-17 |
公开(公告)号: | CN209182610U | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 赵兴翼 | 申请(专利权)人: | 西韩LITEK |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人: | 朱健;张国香 |
地址: | 韩国首尔*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光束控制部件 主平面 背光单元 发光元件 光量调节 局部调光 凹陷部 基板 本实用新型 光量调整 光源释放 白点 导光板 受光部 遮光膜 凹陷 发散 配置 反射 光源 传递 扩散 | ||
1.一种光束控制部件,其特征在于,包括:
导光部件,其包括第一主平面及第二主平面,第一主平面在发光元件的基准光轴上具有凹陷的光入射面,第二主平面在第一主平面的对面的所述基准光轴上具有凹陷部;以及
光量调整片,其至少形成于所述凹陷部周边的所述第二主平面上,
所述凹陷部在穿过所述基准光轴的截面上包括两侧侧壁以及所述侧壁之间的水平面。
2.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
所述光量调整片覆盖所述凹陷部周边以及所述凹陷部上部。
3.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
在穿过所述基准光轴的截面上,所述凹陷部包括倾斜度为0的中心和距离所述中心越远倾斜度越增加的曲面。
4.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
在穿过所述基准光轴的剖面上,所述凹陷部包括从边缘越向中心靠近倾斜度越增加并且中心朝向光源会聚的曲面。
5.根据权利要求3或4所述的光束控制部件,其特征在于,
还包括形成于所述凹陷部上的反射涂层,
所述光量调整片形成于所述凹陷部周边的所述第二主平面上,并且所述凹陷部是开放的。
6.根据权利要求3所述的光束控制部件,其特征在于,
所述凹陷部包括:
第一凹陷部,其包括倾斜度为0的中心和距离所述中心越远倾斜度越增加的曲面;
所述第一凹陷部周边的水平面;
所述水平面边缘的段差面;以及
第二凹陷部,其具有距离所述段差面越远倾斜度越增加的曲面。
7.根据权利要求6所述的光束控制部件,其特征在于,
还包括形成于所述第一凹陷部上的反射涂层,
所述光量调整片形成于所述凹陷部周边的所述第二主平面上和所述第二凹陷部以及所述水平面上部,并且所述凹陷部是开放的。
8.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
所述光量调整片使得通过所述入射面到达所述第二主平面的光的一部分通过并将一部分反射至所述第一主平面。
9.根据权利要求1所述的光束控制部件,其包括:
遮光膜,其形成于所述导光部件的侧面。
10.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
所述光量调整片包括使得通过所述第二主平面射出的光量减少的较厚的区域和较薄的区域以及使得通过所述第二主平面射出的光量增加的与所述较薄的区域相比更薄的光提取促进区域。
11.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
所述光量调整片的较厚的区域位于所述凹陷部中央的上部。
12.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
所述光量调整片的光提取促进区域位于从所述凹陷部隔开规定间距的所述第二主平面上。
13.根据权利要求1所述的光束控制部件,其特征在于,
当为了使得所述光入射面及所述凹陷部的中心位于光轴附近而将光源配置于所述光入射面下部时,
所述光量调整片的较厚的区域和较薄的区域配置于射出的光量比通过导光板射出的光的中心下限光量高的第二主平面上,所述光提取促进区域配置于射出的光量比通过导光板射出的光的中心下限光量低的第二主平面上。
14.根据权利要求13所述的光束控制部件,其特征在于,
所述光量调整片还包括使得凹陷部的界面周边露出的槽。
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