[实用新型]一种用于连续制备一氧化硅的真空电阻炉

权利要求书

1.一种用于连续制备一氧化硅的真空电阻炉，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)的顶板的一端固定设置有炉体(2)，所述炉体(2)的一端固定设置有后端盖(3)，所述炉体(2)在所述后端盖(3)的部位与真空泵连通，所述炉体(2)的内周壁在靠近所述后端盖(3)的部位设置有加热层(4)；

所述炉体(2)的另一端设置有可往复运动的前端盖(5)，所述前端盖(5)的中部设置有连接杆(6)，所述连接杆(6)的一端与成品收集器(7)固定连接，所述成品收集器(7)为由远离所述前端盖(5)的方向直径逐渐变小的圆台形，且远离所述前端盖(5)的一端为开口，所述成品收集器(7)靠近所述前端盖(5)的一端设置有第一密封圈(8)，所述炉体(2)上开设有炉体凹槽(2-1)，所述炉体凹槽(2-1)内设置有与所述第一密封圈(8)配合使用的第二密封圈(9)，所述第二密封圈(9)通过多个均匀布置的弹簧(10)与所述炉体凹槽(2-1)的底部连接；

所述连接杆(6)的另一端与驱动气缸(11)的伸缩杆固定连接，所述驱动气缸(11)固定安装于安装座(12)上，所述安装座(12)设置于所述机架(1)的顶板上且底部与转轴(13)固定连接，所述转轴(13)沿竖直方向设置并贯穿所述机架(1)的顶板，所述转轴(13)的底部与安装于所述机架(1)的顶板下方的驱动电机(14)的输出轴固定连接。

2.根据权利要求1所述的用于连续制备一氧化硅的真空电阻炉，其特征在于：所述转轴(13)的底部通过安装于所述机架(1)的顶板下方的减速器(15)与所述驱动电机(14)的输出轴固定连接。

3.根据权利要求1所述的用于连续制备一氧化硅的真空电阻炉，其特征在于：所述炉体(2)靠近所述前端盖(5)的一端设置有第三密封圈(16)，所述前端盖(5)上设置有与所述第三密封圈(16)配合使用的第四密封圈(17)。

4.根据权利要求3所述的用于连续制备一氧化硅的真空电阻炉，其特征在于：所述第三密封圈(16)上设置有密封圈凹槽(16-1)，所述第四密封圈(17)上设置有与所述密封圈凹槽(16-1)相适配的密封圈凸台(17-1)。

5.根据权利要求1所述的用于连续制备一氧化硅的真空电阻炉，其特征在于：所述炉体(2)的内周壁与所述加热层(4)的外周壁之间设置有保温层(18)。