[实用新型]熔盐基纳米流体制备系统

权利要求书

1.一种熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，包括：

高温池(1)，设有熔盐入口(2)和纳米颗粒入口(3)，用于使所述纳米颗粒均匀分布在所述熔盐内形成纳米流体；

低温池(4)，所述低温池(4)内的温度高于所述纳米流体的熔点，且低于所述高温池(1)内的温度；

第一通路(5)，连接于所述高温池(1)和所述低温池(4)之间，可使所述纳米流体自所述高温池(1)流至所述低温池(4)；

第二通路(6)，用于将所述低温池(4)与应用终端(15)连通，使所述纳米流体自所述低温池(4)流至所述应用终端(15)。

2.根据权利要求1中所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，还包括回收通路(7)，一端与所述应用终端(15)相连，另一端与所述低温池(4)连通，所述回收通路(7)内所述纳米流体自所述应用终端(15)流回至所述低温池(4)。

3.根据权利要求1中所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，所述高温池(1)内设有搅拌装置(8)，通过所述搅拌装置(8)搅拌使纳米颗粒均匀分布在所述熔盐内形成纳米流体。

4.根据权利要求1中所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，在所述第一通路(5)上设有第一光学监测装置(9)，用于监测流过的纳米流体的均匀分散以及老化的情况，并控制所述高温池(1)操作加入所述熔盐基溶液或所述纳米颗粒，或调整搅拌速度。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，在所述第二通路(6)上还依次设有第二光学监测装置(10)和三通阀，所述三通阀的入口与所述第二光学监测装置(10)连通，所述三通阀的第一出口与所述应用终端(15)连通，第二出口通过第三通路(11)与所述高温池(1)相连通，所述第二光学监测装置(10)用于监测流过的所述纳米流体是否符合应用的需求，并通过所述三通阀控制符合需求的所述纳米流体流向所述应用终端(15)，不符合需求的所述纳米流体流向所述高温池(1)。

6.根据权利要求5所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，在所述第一通路(5)和所述第三通路(11)上设有换热器(12)，用于将所述第一通路(5)内所述纳米流体的热量传递至所述第三通路(11)内的所述纳米流体。

7.根据权利要求1-4任一项中所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，所述纳米颗粒为陶瓷氧化物或碳衍生物。

8.根据权利要求1-4任一项中所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，所述高温池(1)内的高温解聚和分散在75℃至600℃的进行。

9.根据权利要求1-4任一项中所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，所述高温池(1)底部还设有排出口(13)。

10.根据权利要求1-4任一项中所述的熔盐基纳米流体制备系统，其特征在于，在所述第一通路(5)或所述第二通路(6)上还设有泵体(14)。