[实用新型]陶瓷餐盘浸釉托架

说明书

一种陶瓷餐盘浸釉托架，包括执手柄，执手柄的右端固定垂直连接有一根细长的右金属杆，右金属杆的下端形成有用以勾住陶瓷餐盘环形盘底的右尖钩，执手柄的左端利用铰接轴活动连接有一根细长的左金属杆，左金属杆的下端形成有用以勾住陶瓷餐盘环形盘底的左尖钩；铰接轴的轴向垂直于执手柄的长向，也垂直于右金属杆的长向；右金属杆中间固定连接有右磁吸块，左金属杆中间固定连接有左磁吸块，右磁吸块和左磁吸块形成吸合配合;右磁吸块和左磁吸块吸合时，右尖钩和左尖钩之间的距离等于陶瓷餐盘环形盘底直径的1/3～2/3。本实用新型在将陶瓷餐盘施釉过程前后，不需夹持着陶瓷餐盘盘沿，并且施釉后能将陶瓷餐盘轻放到循环传送带上。

技术领域

本实用新型属于陶瓷生产设备的技术领域，具体涉及一种陶瓷餐盘浸釉托架。

背景技术

图1所示，陶瓷餐盘8在结构上包括有盘面81、盘沿82、环形盘底83，其中环形盘底83向下凸出于盘面81的下表面，使用时，环形盘底83接触餐桌，而盘面81的下表面悬空。

陶瓷餐盘的施釉工艺一般是采用浸釉方式，也就是将整个陶瓷餐盘坯浸没到釉池中，同时对陶瓷餐盘的上表面和下表面进行上釉，浸釉后需要入窑烧结。烧结时，陶瓷餐盘的整圈环形盘底接触耐火板的上表面，由于在之前的施釉工序中，整个陶瓷餐盘都被浸没在釉池中，所以如果烧结前不将盘底底面的釉料擦除，则烧结后，陶瓷餐盘的盘底底面釉料黏连在耐火板上，使整个陶瓷餐盘与耐火板黏连在一起，分离非常困难，而且强行掰开后会殃及黏连部位的周围釉料，造成陶瓷餐盘的损坏，影响产品的成品率。所以，现有技术中，在将陶瓷餐盘浸釉后，一般需要将陶瓷餐盘转移到两条紧挨在一起的循环传送带的中间，该两条循环传送带的转动方向相反，速度大小不同，从而可以使陶瓷餐盘缓慢向前移动并且不断自转，在此过程中循环传送带能将陶瓷餐盘底部（底沿）的釉层擦除。然而，现有技术中，在将陶瓷餐盘从釉池中转移到循环传送带上面的过程中，必须夹持着陶瓷餐盘盘沿的某个局部，才能带动陶瓷餐盘移动，并且才能将陶瓷餐盘轻轻地放置到循环传送带上面（此时的陶瓷餐盘尚未烧结，十分脆弱，必须小心轻放），这样一来，由于陶瓷餐盘刚从釉池中捞出来，表面釉料还十分湿润，因此被夹持部位的釉料可能受到揩擦，使被夹持部位的釉料厚度与周边部位产生差异，严重时会影响最终陶瓷餐盘成品的外观质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述缺点而提供一种陶瓷餐盘浸釉托架，它在将陶瓷餐盘施釉过程前后，不需夹持着陶瓷餐盘盘沿，并且施釉后能将陶瓷餐盘轻放到循环传送带上。

其目的可以按以下方案实现：一种陶瓷餐盘浸釉托架，包括执手柄，其主要特点在于，执手柄的右端固定垂直连接有一根细长的右金属杆，右金属杆的下端形成有用以勾住陶瓷餐盘环形盘底的右尖钩，执手柄的左端利用铰接轴活动连接有一根细长的左金属杆，左金属杆的下端形成有用以勾住陶瓷餐盘环形盘底的左尖钩；铰接轴的轴向垂直于执手柄的长向，也垂直于右金属杆的长向；

右金属杆中间固定连接有右磁吸块，左金属杆中间固定连接有左磁吸块，右磁吸块和左磁吸块形成吸合配合。

较好的是，当右磁吸块和左磁吸块吸合时，右尖钩和左尖钩之间的距离等于陶瓷餐盘环形盘底直径的1/3～2/3。

本实用新型具有以下优点和效果：