[实用新型]一种射流式水下清洗装置

权利要求书

1.一种射流式水下清洗装置，其特征在于：

包括进水接头(1)、中间轴(3)、转盘(7)；

所述中间轴(3)具有中心通孔，中间轴(3)后端与转盘(7)固定连接，转盘(7)具有密闭舱体，所述密闭舱体上设有多个喷射口，喷射口与转盘(7)端面具有一定夹角，使喷射出的水流对转盘(7)产生回转作用力；

所述进水接头(1)为三通结构，具有进水端、前出水端、后出水端；所述前出水端与所述中间轴的前端连通，所述后出水端用于平衡喷射时转盘(7)的反作用力；所述进水端与外接水泵连接。

2.如权利要求1所述的射流式水下清洗装置，其特征在于：还包括轴套(2)，轴套固定在中间轴(3)外部，进水接头(1)与轴套(2)之间安装有组合密封垫(15)。

3.如权利要求2所述的射流式水下清洗装置，其特征在于：中间轴前端与轴套(2)之间设有第一密封圈(14)，中间轴(3)在轴套(2)内通过轴承端盖(8)轴向定位。

4.如权利要求2所述的射流式水下清洗装置，其特征在于：接头(1)后出水端为外螺纹结构，接头(1)与轴套(2)之间安装有组合密封垫(15)，用来螺纹连接处密封。

5.如权利要求3所述的射流式水下清洗装置，其特征在于：所述轴承端盖(8)与轴套(2)通过螺栓(10)固定，中间设有密封垫(11)，轴承端盖(8)与中间轴(3)之间安装有第二密封圈(9)，用以轴向密封。

6.如权利要求2所述的射流式水下清洗装置，其特征在于：所述轴套(2)外缘通过法兰(5)与转盘罩壳(6)固定连接，所述转盘罩壳(6)包覆在转盘外部，并且与转盘不接触，敞口方向与转盘喷射方向相同；所述罩壳上开设多个通孔，用于利用水流推力保持装置整体平衡。

7.如权利要求1所述的射流式水下清洗装置，其特征在于：所述中间轴(3)中间分开布置有两个滚动轴承(4)，与轴套(2)相对转动，中间轴(3)通过轴承端盖(8)轴向定位。