[实用新型]基片承载轴连续摆动式转架

说明书

基片承载轴连续摆动式转架，公转盘安装轴连接驱动电机，公转盘上对称安装传动盘转动座，公转盘上位于每个传动盘转动座外侧设有自转轴转动座，传动盘转动座上部安装传动盘，传动盘转动座下部安装小齿轮，传动盘边缘处上设有传动盘驱动销；自转轴转动座上部安装基片承载盘，基片承载盘尾端处设有基片承载盘驱动销，摆动杆两侧的长条形孔与传动盘驱动销和基片承载盘驱动销配合安装，摆动杆通过摆动杆座轴活动安装于公转盘上；下板座上部与公转盘之间安装压力球轴承，下板座上位于公转盘安装轴外侧固定安装大齿轮。本实用新型转架的公转盘转动时自转轴会持续的两个方向摆动，在不降低轴瓦成膜速率的情况下进一步提高了轴瓦内表面的膜层均匀度。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备领域，尤其涉及半圆形轴瓦镀膜设备。

背景技术

目前，公知的为轴瓦镀膜的平面磁控靶作为溅射源的真空镀膜设备常用的转架形式有三种，第一种为公转盘、自转轴均持续旋转；第二种为公转盘持续旋转而基片挂载架不旋转；第三种为公转盘向一个方向转动时基片挂载架会产生与公转盘相反方向的摆动的转架，当自转轴摆动到既定位置后则停止摆动。

根据平面磁控溅射源原理，平面磁控溅射源工作时，平面磁控溅射源功率不变的情况下，被镀膜轴瓦的膜层厚度与靶材和轴瓦表面的距离成正比，被镀膜轴瓦和靶材距离相同的情况下，轴瓦膜层的厚度和轴瓦正对靶材的时间成正比。

公知的第一种传统转架结构自转轴持续旋转使靶材与轴瓦相对位置持续改变，可实现轴瓦镀膜的均匀度，但是当轴瓦旋转到背对靶材一端时，因为瓦片与靶材背对则无法镀膜。第二种转架公转盘转动时挂载架正对靶材方向不动保证了靶材与瓦片距离不变，可实现快速成膜，但是因为轴瓦的内表面为弧面造成轴瓦膜层的均匀度却无法保证。第三种转架结构基片挂载架随着公转盘转动实现正对靶材的单次摆动，此转架结构挂载的轴瓦始终正对靶材且随着公转盘改变转动方向单次改变基片挂载架摆动的方向，因为挂载架正对靶材方向不动保证了靶材与瓦片距离不变，所以此转架结构可实现快速成膜，因为转架基片挂载架摆动不是连续性的，所以此种结构的转架的轴瓦成膜均匀度低于自转轴连续转动的转架结构。

实用新型内容

为了解决现有轴瓦镀膜设备转架存在的上述问题，本实用新型提供了一种基片承载轴连续摆动式转架。

本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是：基片承载轴连续摆动式转架，公转盘安装轴活动贯穿安装于下板座上，公转盘安装轴连接驱动电机，公转盘上对称安装传动盘转动座，公转盘上位于每个传动盘转动座外侧设有自转轴转动座，传动盘转动座上部安装传动盘，传动盘转动座下部安装小齿轮，传动盘边缘处上设有传动盘驱动销；自转轴转动座上部安装基片承载盘，基片承载盘尾端处设有基片承载盘驱动销，摆动杆两侧的长条形孔与传动盘驱动销和基片承载盘驱动销配合安装，摆动杆通过摆动杆座轴活动安装于公转盘上；下板座上部与公转盘之间安装压力球轴承，下板座上位于公转盘安装轴外侧固定安装与小齿轮啮合的大齿轮。

所述公转盘上对称安装4个传动盘转动座和4个自转轴转动座。

本实用新型的基片承载轴连续摆动式转架，应用于平面磁控靶作为溅射源的真空镀膜设备，被镀膜基片为半圆形轴瓦，转架的公转盘转动时自转轴会持续的两个方向摆动，在不降低轴瓦成膜速率的情况下进一步提高了轴瓦内表面的膜层均匀度。

附图说明

图1是本实用新型基片承载轴连续摆动式转架主视结构图。

图2是本实用新型基片承载轴连续摆动式转架俯视结构图。

图中：1、基片承载盘，2、自转轴转动座，3、基片承载盘驱动销，4、摆动杆，5、摆动杆座轴，6、传动盘驱动销，7、传动盘，8、传动盘转动座，9、小齿轮，10、大齿轮，11、公转盘，12、驱动电机，13、被镀膜轴瓦，14、压力球轴承，15、下板座。

具体实施方式