[实用新型]一种纳米硅激光气相合成系统

权利要求书

1.一种纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，包括：

反应腔；

激光器，设置于反应腔的一端，产生的激光通过反应腔入口射入到反应腔内；

硅烷气瓶，所述硅烷气瓶内盛有硅烷，硅烷通过管道通入反应腔内；

束缚氮气瓶，所述束缚氮气瓶内装有用于为硅烷提供束缚保护作用的氮气，该氮气通过管道通入反应腔内；

混合气瓶，所述混合气瓶内盛有氮气和氢气，该氮气和氢气通过管道通入反应腔内；

硅粉收集器，设置于反应腔的下端，用于收集反应腔内产生的纳米硅颗粒；

真空抽取子系统，与反应腔连接，用于抽取反应腔内的气体，使反应腔内呈现真空状态。

2.如权利要求1所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述的真空抽取子系统包括：

压力传感器，设置于反应腔的底部，用于检测反应腔内的压力；

过滤器，过滤器的入口与反应腔连接，在抽取反应腔内气体时，用于过滤氮气、氢气以及硅烷；

泵，泵的入口通过管道与过滤器的出口连接，用于抽取反应腔内的气体。

3.如权利要求2所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述真空抽取子系统还包括：

燃烧氧化装置，与泵的出口连接，用于燃烧泵内残余的氮气、氢气以及硅烷。

4.如权利要求3所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述纳米硅激光气相合成系统还包括：

破解氮气瓶，所述破解氮气瓶内盛有起增加反应腔内压强的氮气，该氮气通过管道通入到反应腔内。

5.如权利要求4所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述纳米硅激光气相合成系统还包括：

激光冷却吸收装置，该装置设置于反应腔另一端，接收从反应腔出口出射的激光，并对该激光进行冷却和吸收。

6.如权利要求1所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述激光器为二氧化碳激光器。

7.如权利要求1所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述硅烷气瓶、束缚氮气瓶以及混合气瓶分别与反应腔之间的管道上均设有调节阀，用于调节进入腔体的流速。

8.如权利要求4所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述破解氮气瓶与反应腔之间的管道上设有调节阀。

9.如权利要求2所述的纳米硅激光气相合成系统，其特征在于，所述过滤器与泵之间依次设有第一调节阀、第二调节阀，所述第一调节阀受所述压力传感器的压力信号控制。