[实用新型]一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉有效
申请号: | 201820831934.3 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN208440719U | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 李小刚 | 申请(专利权)人: | 峨眉山市元素新材料科技有限公司 |
主分类号: | C30B13/00 | 分类号: | C30B13/00;C30B29/06 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 白小明 |
地址: | 614100 四川省乐山*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 炉室 悬浮区熔 单晶炉 本实用新型 挂架 伸缩轴 上轴 夹具 横向滑动 滑动机构 炉室顶部 内壁连接 一端连接 占用空间 长棒状 单晶棒 单晶 下轴 生产成本 生长 生产 | ||
本实用新型属于悬浮区熔单晶炉技术领域,具体涉及一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉。针对现有用于生产较长单晶棒的悬浮区熔单晶炉由于炉室过大,导致生产成本较高、占用空间较大的问题。本实用新型的技术方案是:包括炉室,炉室顶部设置有上轴,上轴的末端设置有夹具,炉室底部设置有下轴,炉室中还设置有挂架,挂架一端连接有用于将挂架输送至上轴下方的伸缩轴,伸缩轴通过能够横向滑动的滑动机构与炉室的内壁连接。本实用新型适用于长棒状单晶的生长工艺。
技术领域
本实用新型属于悬浮区熔单晶炉技术领域,具体涉及一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉。
背景技术
悬浮区熔单晶炉用于悬浮区熔提纯与悬浮单晶生长的装置。主要用于区熔硅的提纯和单晶生长,已用于工业生产半导体材料。悬浮区熔单晶炉结构由两部分组成,即炉室和机械传动部分以及电气控制柜和高频发生器部分。炉室为一不锈钢水套式直立容器,可抽高真空或通入流动氩气。从炉室顶底端各插入上轴和下轴,上轴下端夹持一根多晶硅棒,下轴顶端夹持一籽晶。炉室中央装设一单匝高频加热线圈。上下轴可分别旋转和升降。电气控制柜上装有指示仪表、调速旋钮、按钮开关。柜内装有电机控制系统等。
这种单晶炉的缺点是对于较长的单晶棒的生产,必须使用相同长度的原料晶体棒,这导致设置原料晶体棒的炉室也比较高,且体积也比较大。这一方面导致了抽真空的难度或增加了惰性气体的使用量,使得工艺成本较高;另一方面使得悬浮区熔单晶炉整体较高、体积较大,占用过多的空间。
实用新型内容
针对上述现有用于生产较长单晶棒的悬浮区熔单晶炉由于炉室过大,导致生产成本较高、占用空间较大的问题。本实用新型提供一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,其目的在于:通过分段提供原料晶体棒的方式,降低炉室的高度,从而有效降低悬浮区熔单晶炉整体的体积,从而降低生产成本和占用的空间。
本实用新型采用的技术方案如下:
一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,包括炉室,炉室顶部设置有上轴,上轴的末端设置有夹具,炉室底部设置有下轴,炉室中还设置有挂架,挂架一端连接有用于将挂架输送至上轴下方的伸缩轴,伸缩轴通过能够横向滑动的滑动机构与炉室的内壁连接。
采用该技术方案后,需要熔融的原料晶体棒可截断成较短长度的多根短棒,并将短棒密集挂在挂架上。进行单晶棒的生长时,先将挂架输送至上轴的下方,由位于上轴底部的夹具从挂架上夹取一根原料晶体棒,然后将挂架移开,进行单晶棒的生长。上轴夹取的原料晶体棒消耗完后,将挂架再次输送到上轴下方,先将上轴上剩余的无法再继续熔融的原料晶体棒残余部放回挂架,然后微调挂架的位置,用上轴底部的夹具夹取另一根原料晶体棒,移开挂架后在上一次生长的基础上继续进行单晶棒的生长。上述过程一直重复,直到所有的原料晶体棒熔融生长成一根单晶棒。由于将原料晶体棒截成了多根短棒,因而容纳原料晶体棒的炉室的高度可以设计得更低,从而达到了减小炉室的体积和使得悬浮区熔单晶炉小型化的目的。更小的炉室体积可以使得抽真空和填充惰性气体更加容易,从而降低了工艺的成本。悬浮区熔单晶炉小型化则有利于减小设备的占用空间。
优选的,夹具和伸缩轴连接有控制系统。控制系统用于从炉室外部控制夹具和伸缩轴的运行,实现夹取原料单晶棒的操作。
优选的,挂架上设置有多个等距排列的限位条,所述限位条向上弯曲。挂架悬挂原料晶体棒的方式可以有多种选择。该优选方案结构简单,为较优的选择。该优选方案的实施方法是,使得每一根原料晶体棒的直径略大于两根相邻限位条之间的距离,然后在原料晶体棒的顶端附近刻出凹槽,使得凹槽与两根相邻限位条匹配,这样可以通过凹槽与限位条的配合悬挂原料晶体棒。限位条向上弯曲的目的是阻挡原料晶体棒,避免原料晶体棒在晃动的作用下掉落。
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