[实用新型]成像系统和电子装置有效

专利信息
申请号: 201820837916.6 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN208156287U 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 邹海荣;俞炳泽;兰宾利 申请(专利权)人: 南昌欧菲精密光学制品有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
地址: 330096 江西省南昌市南昌*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 透镜 成像系统 像侧面 电子装置 屈折力 物侧面 凸面 本实用新型 正屈折力 圆周处 凹面 光轴 负屈折力 高分辨率 透镜配置 反曲点 解像度 减小 物侧 像侧
【说明书】:

实用新型公开了一种成像系统和电子装置。成像系统沿着光轴的物侧至像侧依次包括具有正屈折力的第一透镜、具有屈折力的第二透镜、具有屈折力的第三透镜、具有屈折力的第四透镜、具有正屈折力的第五透镜和具有负屈折力的第六透镜。第一透镜的物侧面为凸面,第五透镜的物侧面在圆周处为凹面,第五透镜的像侧面为凸面,第六透镜的像侧面在光轴处为凹面,第六透镜的像侧面在圆周处为凸面,第六透镜的物侧面和像侧面中的至少一个表面包括至少一个反曲点。本实用新型实施方式的成像系统和电子装置通过上述对六枚透镜的合理的透镜配置,成像系统不仅具备良好的解像度以满足高分辨率需求,还可以减小成像系统的高度以满足小型化的需求。

技术领域

本实用新型涉及光学成像技术,特别涉及一种成像系统和电子装置。

背景技术

随着半导体工艺的发展,感光元件的像素越来越高,因此对与感光元件配合的成像系统的分辨率的要求也越来越高。然而,为了校正像差,提升分辨率,通常需要增加成像系统的镜片的数目,导致成像系统尺寸变大,难以得到小型化的成像系统。

实用新型内容

本实用新型实施方式提供一种成像系统和电子装置。

本实用新型实施方式的成像系统沿着光轴的物侧至像侧依次包括具有正屈折力的第一透镜、具有屈折力的第二透镜、具有屈折力的第三透镜、具有屈折力的第四透镜、具有正屈折力的第五透镜和具有负屈折力的第六透镜。所述第一透镜的物侧面为凸面,所述第五透镜的物侧面在圆周处为凹面,所述第五透镜的像侧面为凸面,所述第六透镜的像侧面在光轴处为凹面,所述第六透镜的像侧面在圆周处为凸面,所述第六透镜的物侧面和像侧面中的至少一个表面包括至少一个反曲点。

本实用新型实施方式的成像系统通过上述对六枚透镜的合理透镜配置,成像系统不仅具备良好的解像度以满足高分辨率需求,还可以减小成像系统的高度以满足小型化需求,且在第六透镜上设置反曲点可有效地压制离轴视场的光线入射于感光元件上的角度,从而修正离轴视场的像差,提高成像质量。

在某些实施方式中,所述成像系统满足以下关系式:

0<∣f/f2∣+∣f/f3∣<2;

其中,f为所述成像系统的焦距,f2为所述第二透镜的焦距,f3为所述第三透镜焦距。

满足上述关系式时,使得第二透镜和第三透镜具有比较合适的光焦度,以配合成像系统整体光焦度的配置,并且有利于校正画面周边的像差,提高成像系统的成像品质。

在某些实施方式中,所述成像系统还包括光阑,所述成像系统满足以下关系式:

SL/TTL>0.85;

其中,SL为所述光阑至成像面在光轴上的距离,TTL为成像系统的总长。

满足上述关系式时,可以使得成像系统满足高像素的需求,解决成像系统低背化、大视场角中拍摄图片偏暗的问题,从而扩大成像系统可使用的时间和环境。

在某些实施方式中,所述成像系统包括第一透镜组和第二透镜组,所述第一透镜组包括所述第一透镜、所述第二透镜和所述第三透镜,所述第二透镜组包括所述第四透镜、所述第五透镜和所述第六透镜,所述成像系统满足以下关系式:

-1<f13/f46<1;

其中,f13为所述第一透镜组的组合焦距,f46为所述第二透镜组的组合焦距。

满足上述关系式时,第一透镜、第三透镜、第五透镜和第六透镜具有比较合适的光焦度,以配合成像系统整体光焦度的配置,有利于校正像差,提高成像系统的成像品质,且有利于成像系统的小型化。

在某些实施方式中,所述成像系统满足以下关系式:

∣R9/R10∣<6;

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