[实用新型]一种微晶玻璃器件

权利要求书

1.一种微晶玻璃器件，包括微晶玻璃本体(1)，其特征在于，微晶玻璃本体(1)具有玻璃相和晶体相，所述晶体相均匀分布在微晶玻璃本体(1)内部，微晶玻璃本体(1)在380nm至800nm波长范围内的可见光透过率为30-92％之间，且微晶玻璃本体(1)对380nm至800nm波长范围内的光的平均透过率为60％以上；

微晶玻璃本体(1)的表面具有通过化学离子交换强化产生的压应力层，微晶玻璃本体(1)表面压应力为350Mpa以上，压应力层深度为20μm以上。

2.如权利要求1所述的微晶玻璃器件，其特征在于，微晶玻璃本体(1)的表面压应力为500Mpa以上，压应力层深度为40μm以上。

3.如权利要求2所述的微晶玻璃器件，其特征在于，所述微晶玻璃本体为碱金属铝硅系微晶玻璃、碱土金属铝硅系微晶玻璃或钠钙玻璃系微晶玻璃，所述微晶玻璃本体中每个晶体相尺寸为5nm-150nm，晶体相种类为石英固溶体、锂辉石、锂霞石、尖晶石、金红石、莫来石、橄榄石、顽火辉石、堇青石中的任意一种；所述微晶玻璃本体中玻璃相均匀包裹在晶体相外围。

4.如权利要求1所述的微晶玻璃器件，其特征在于，微晶玻璃本体(1)的外表层附着厚度为4-30nm的无色透明的防污层(11)，防污层(11)为氟硅水解化合物。

5.如权利要求4所述的微晶玻璃器件，其特征在于，防污层(11)下具有厚度为3-20nm的二氧化硅层。

6.如权利要求1所述的微晶玻璃器件，其特征在于，微晶玻璃本体(1)的厚度为0.3-4mm。

7.如权利要求1所述的微晶玻璃器件，其特征在于，微晶玻璃本体(1)表面存在经镀膜或刻蚀加工后形成提供雾度的表面处理层(12)，表面处理层(12)的厚度大于5nm，光泽度为5-130，雾度为0.5％-80％；表面处理层(12)的外表面具有经真空蒸发镀膜或湿法喷涂的方式形成的氟硅水解化合物。

8.如权利要求1所述的微晶玻璃器件，其特征在于，微晶玻璃本体(1)表面存在经过真空镀膜后形成的提供颜色的表面不导电的颜色镀层，所述颜色镀层的厚度为10nm-100nm；

所述颜色镀层，通过物理气相沉积法，于真空镀膜机中将颜料靶材气化或粒子化并沉积于所述微晶玻璃本体的表面，所述颜料靶材为无机氧化物或氮化物。

9.如权利要求1-8中任意一项所述的微晶玻璃器件，其特征在于，微晶玻璃本体(1)为二维平面形状。

10.如权利要求1-8中任意一项所述的微晶玻璃器件，其特征在于，微晶玻璃本体(1)为三维曲面形状。