[实用新型]单双面研磨抛光机有效
申请号: | 201820856294.1 | 申请日: | 2018-06-04 |
公开(公告)号: | CN208514310U | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 曹建平;曹培福;曾正平 | 申请(专利权)人: | 湖南省新化县鑫星电子陶瓷有限责任公司 |
主分类号: | B24B37/08 | 分类号: | B24B37/08;B24B37/10;B24B37/34;B24B37/12 |
代理公司: | 北京开林佰兴专利代理事务所(普通合伙) 11692 | 代理人: | 刘帅帅 |
地址: | 417600 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
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本实用新型涉及一种单双面研磨抛光机,在现有的单面研磨抛光机的基础上增加辅助抛光装置,使得现有的单面研磨抛光研磨机具备双面抛光的功能,因而无需增加新的双面研磨平抛光机即可实现双面抛光的目的。
技术领域
本实用新型涉及一种单双面研磨抛光机,属于抛光机技术领域。
背景技术
在对陶瓷产品进行抛光时,通常会采用到研磨抛光机,大多数陶瓷产品只需对陶瓷产品的单面进行抛光,而有一小部分陶瓷产品需要双面进行抛光,而为了该一小部分产品去构面双面研磨抛光机,显然不太合适,而采用单面研磨抛光机对需要双面均抛光的陶瓷产品进行抛光时,需在对陶瓷产品一面抛光完毕后,需将大量的陶瓷产品依次翻面,再进行一次抛光,浪费操作人员大量的时间,效率低下。
实用新型内容
为了解决现有技术存在的问题,本实用新型提供了一种单双面研磨抛光机,在不改变现有单面研磨抛光机的结构的基础上,通过增加一定的机构,就能够实现对陶瓷产品的双面抛光。
本实用新型所采用的技术方案为:
一种单双面研磨抛光机,包括:工作台,所述工作台上开设有工作空间,所述工作空间内的底部铺设有下抛光盘,所述工作空间内设有太阳轮和内齿,所述工作空间为圆柱状,所述内齿为环形,所述内齿的外圈与所述工作空间的侧壁相配合,所述太阳轮的轴线、所述内齿的轴线和所述工作空间的轴线位于同一条直线上,所述太阳轮的侧面上设有连续的齿,所述内齿的内侧也设有连续的齿,还包括3个游星轮,3个所述游星轮均位于所述工作空间内,3个所述游星轮绕所述太阳轮均匀分布,且每个所述游星轮的外侧同时与所述太阳轮和所述内齿啮合,所述游星轮的横截面为圆环形,所述游星轮的中部区域为抛光空间;
所述工作台上还设有辅助抛光装置,所述辅助抛光装置包括转动支架,所述转动支架的一端铰接在所述工作台上,所述转动支架的另一端连接有上抛光盘,所述上抛光盘具有两个工位,分别为第一工位和第二工位,
第一工位:所述上抛光盘水平设置,且所述上抛光盘位于所述游星轮运动轨迹的正上方;
第二工位:所述上抛光盘竖直设置,且所述上抛光盘位于所述工作空间的外侧;
所述转动支架带动所述上抛光盘在所述第一工位和所述第二工位之间切换,在所述上抛光盘位于第一工位时,所述上抛光盘与所述下抛光盘之间形成的间隔与陶瓷产品的高度相适应。
优选的,所述上抛光盘通过弹簧弹性固定在所述转动支架上。
优选的,在所述上抛光盘位于第一工位时,所述上抛光盘的抛光面为向下凸出的圆弧形。
优选的,所述辅助抛光装置还包括固定扣和插销,所述固定扣固定在所述工作台上,在所述上抛光盘位于第一工位时,所述转动支架与所述固定扣配合并通过所述插销固定所述转动支架固。
通常,所述辅助抛光装置的数量为4个,4个所述辅助抛光装置绕所述工作空间均匀分布。
本实用新型的有益效果:
本实用新型通过设置辅助抛光装置,在需要对陶瓷产品的双面进行抛光时,将上抛光盘转动到第一工位,陶瓷产品在经过上抛光盘与下抛光盘之间的间隔时,陶瓷产品的上表面和下表面能够同时被抛光,而在仅需要对陶瓷抛光产品进行单面抛光时,只需将上抛光盘转动到第二工位,此时只有下抛光盘与陶瓷产品接触,实现单面抛光。
附图说明
图1是本实用新型的俯视图;
图2是未安装辅助抛光装置时的俯视图;
图3是本实用新型的剖视图;
图4是上抛光盘处于第二工位时的结构示意图;
图5是上抛光盘的剖视图。
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