[实用新型]一种下挖式栽培槽有效
| 申请号： | 201820859755.0 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN208609589U | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 李新旭;王艳芳;雷喜红;李蔚;冯颖 | 申请（专利权）人： | 北京市农业技术推广站 |
| 主分类号： | A01G31/02 | 分类号： | A01G31/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;吴欢燕 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 营养液 防渗透膜 导流板 下挖式栽培槽 地下沟槽 栽培效果 植株根系 防虫网 缓冲性 铺设 回液 渗漏 无土栽培技术 本实用新型 基质颗粒 立柱间隙 营养需要 栽培方式 栽培基质 再次利用 植株 基质 堵塞 汲取 阻碍 流通 支撑 保证 | ||
【权利要求书】：
1.一种下挖式栽培槽，其特征在于，包括铺设在地下沟槽内的防渗透膜，所述防渗透膜上侧设有导流板，所述导流板上侧铺设防虫网，所述导流板设有多个立柱，相邻两个所述立柱之间设有用以流通回液的间隙，所述防虫网的底侧铺设在所述立柱上侧，所述防虫网的水平周侧与所述防渗透膜贴合。
2.如权利要求1所述的下挖式栽培槽，其特征在于，所述防渗透膜为黑白膜，所述黑白膜的黑色面与所述地下沟槽的内壁贴合。
3.如权利要求1所述的下挖式栽培槽，其特征在于，所述导流板的宽度与所述地下沟槽的宽度安置适配。
4.如权利要求1所述的下挖式栽培槽，其特征在于，所述地下沟槽的宽度为20～40cm。
5.如权利要求1所述的下挖式栽培槽，其特征在于，所述地下沟槽的深度为20～40cm。
6.如权利要求1-5任一项所述的下挖式栽培槽，其特征在于，所述地下沟槽的底面沿回液的流动方向向下倾斜。
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