[实用新型]物料清洗装置及烹饪器具

权利要求书

1.一种物料清洗装置，其特征在于，包括：

清洗腔体；

运动件，设置在所述清洗腔体内，并能够相对所述清洗腔体运动；

驱动机构，至少部分位于所述清洗腔体外，并与所述运动件相连接，用于驱动所述运动件运动；

密封件，设置在所述驱动机构与所述清洗腔体之间，且其相对的两个侧壁分别与所述驱动机构及所述清洗腔体相接触，所述密封件包括环状主体和设置在所述环状主体的侧壁上且沿所述环状主体的径向方向延伸的密封脊；

其中，所述驱动机构与所述密封件的侧壁的接触面和所述清洗腔体与所述密封件的侧壁的接触面中的一个为能够相对所述密封件运动的运动面，另一个为与所述密封件保持相对静止的静止面，所述环状主体套设在所述静止面上，所述密封脊与所述运动面相抵靠。

2.根据权利要求1所述的物料清洗装置，其特征在于，

所述清洗腔体和/或所述驱动机构上设有支撑部，所述支撑部与所述密封件相配合，能够限制所述密封件向下运动。

3.根据权利要求2所述的物料清洗装置，其特征在于，

所述环状主体的底部设有凹槽，所述支撑部为与所述凹槽相适配的凸起，所述凸起插入所述凹槽内，以限制所述密封件向下运动；或者

所述环状主体的底部设有凸起，所述支撑部为与所述凸起相适配的凹槽，所述凸起插入所述凹槽内，以限制所述密封件向下运动；或者

所述环状主体背离所述密封脊的一侧的侧壁上设有凹槽，所述支撑部为与所述凹槽相适配的凸起，所述凸起插入所述凹槽内，以限制所述密封件向下运动；或者

所述环状主体背离所述密封脊的一侧的侧壁上设有凸起，所述支撑部为与所述凸起相适配的凹槽，所述凸起插入所述凹槽内，以限制所述密封件向下运动。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的物料清洗装置，其特征在于，

所述密封脊的厚度沿远离所述环状主体的方向逐渐减薄；和/或

所述密封脊的平均厚度在0.2mm-0.5mm的范围内；和/或

所述密封脊的顶部的厚度与其根部的厚度的比值大于或等于0.4且小于1；和/或

所述密封脊的顶部为圆弧面。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的物料清洗装置，其特征在于，

所述密封脊的纵截面呈等腰梯形，所述等腰梯形的高垂直于所述环状主体的侧壁，所述等腰梯形的下底边与所述环状主体相连；和/或

所述密封脊的数量为多个，多个所述密封脊平行设置；和/或

所述环状主体与所述静止面之间的干涉量在0.1mm-1.5mm的范围内；和/或

所述密封脊与所述运动面之间的干涉量在0.1mm-1.5mm的范围内；和/或

所述清洗腔体与所述驱动机构中的一个上设有向下延伸的环形板，另一个上设有向上延伸的环形板，两个所述环形板嵌套设置，形成由外向内依次相嵌套的第一环形面、第二环形面、第三环形面和第四环形面；其中，所述第一环形面和所述第三环形面分别形成为所述静止面和所述运动面，或者所述第三环形面和所述第二环形面分别形成为所述静止面和所述运动面。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的物料清洗装置，其特征在于，

所述驱动机构包括位于所述清洗腔体外的电机和与所述电机相连的转动件，所述转动件安装在所述清洗腔体的顶部并与所述运动件相连，且其旋转轴线与所述清洗腔体的中心轴线共线，所述密封件设置在所述转动件与所述清洗腔体之间。

7.根据权利要求6所述的物料清洗装置，其特征在于，

所述清洗腔体包括上端敞口的本体和盖设在所述本体上的清洗盖，所述转动件设置在所述本体的敞口端与所述清洗盖之间；

其中，所述密封件的数量为两个，两个所述密封件分别位于所述清洗盖与所述转动件之间及所述转动件与所述本体之间。

8.根据权利要求7所述的物料清洗装置，其特征在于，

所述转动件为从动齿轮，所述驱动机构还包括主动齿轮，所述主动齿轮套设在所述电机的输出轴上，并与所述从动齿轮相啮合。