[实用新型]一种免黑化的低反射率金属网格触摸屏有效
| 申请号： | 201820900217.1 | 申请日： | 2018-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN208298148U | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 俎阿敏;刘威;崔子龙;吴德生 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 邓义华;廖苑滨 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属网格 触摸屏 黑化 低反射率金属 氮化钼 金属层 网格 遮挡 干涉现象 制备工艺要求 本实用新型 金属网格层 氮化钼层 低反射率 立方晶体 强光照射 有效控制 低成本 高反射 上表面 线宽 保证 | ||
【权利要求书】：
1.一种免黑化的低反射率金属网格触摸屏，其特征在于，所述免黑化的低反射率金属网格触摸屏包括由上至下依次设置的：盖板、油墨层、第一金属网格层、第一OC层、第二金属网格层、第二OC层；其中：
所述第一金属网格层共有三层，由上至下依次为：第一氮化钼层、第一金属Al层或者第一金属Cu层或者第一金属Ag层、第一金属Mo层或者第三氮化钼层；
所述第二金属网格层共有三层，由上至下依次为：第二氮化钼层、第二金属Al层或者第二金属Cu层或者第二金属Ag层、第二金属Mo层或者第四氮化钼层。
2.根据权利要求1所述的一种免黑化的低反射率金属网格触摸屏，其特征在于，所述第一氮化钼层是通过磁控反应溅射将氮化钼沉积在玻璃基板上，或者所述第一氮化钼层是通过真空蒸镀将氮化钼沉积在玻璃基板上。
3.根据权利要求1所述的一种免黑化的低反射率金属网格触摸屏，其特征在于，所述第二氮化钼层是通过磁控反应溅射将氮化钼沉积在第一OC层上，或者所述第二氮化钼层是通过真空蒸镀将氮化钼沉积在第一OC层上。
4.根据权利要求1所述的一种免黑化的低反射率金属网格触摸屏，其特征在于，所述第一金属网格层和第二金属网格层交叉设置，第一金属网格层的网格线宽和第二金属网格层的网格线宽相等。
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