[实用新型]一种外延生长用的设备有效
| 申请号： | 201820915500.1 | 申请日： | 2018-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN208440727U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 陈奉顺;黄文嘉;彭伟伦;洪伟;张中英;李明照;张瑞龙 | 申请（专利权）人： | 厦门三安光电有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B25/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 出气管路 外延生长 进气管路 石墨盘 反应腔室压力 外延生长晶片 本实用新型 承载晶片 反应气体 反应腔室 反应腔 可调控 蝶阀 阀门 尾气 承载 室内 | ||
1.一种外延生长用的设备，用于MOCVD外延生长，设备包括用于承载晶片的石墨盘、进气管路、出气管路以及位于进气管路和出气管路之间的反应腔室，外延生长时，进气管路提供反应气体，出气管路排除尾气，石墨盘位于反应腔室内，用于承载外延生长晶片，其特征在于，出气管路具有一个或者多个可调控反应腔室压力的蝶阀。
2.根据权利要求1所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，进气管路与出气管路位于石墨盘的左右或者上下两侧。
3.根据权利要求2所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，进气管路与出气管路相对石墨盘对称设置。
4.根据权利要求1到3中任意一项所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，进气管路与石墨盘之间设置有匀气装置。
5.根据权利要求4所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，匀气装置表面具有均匀分布的孔洞。
6.根据权利要求5所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，匀气装置的孔洞关于石墨盘表面均匀分布。
7.根据权利要求1所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，进气管路提供的进气包括大分子气体。
8.根据权利要求1所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，进气管路提供的进气的成分包括氯气或/和氯化氢。
9.根据权利要求1所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，设备具有控制器，控制器用于调整蝶阀开启角度。
10.根据权利要求1所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，反应腔室内具有气压感应器。
11.根据权利要求1所述的一种外延生长用的设备，其特征在于，多个蝶阀为串联或者并联设置。
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