[实用新型]一种研磨废水处理系统

说明书

本实用新型属于水处理领域，尤其涉及一种研磨废水处理系统。本实用新型提供的处理系统包括：废水收集装置；与所述废水收集调整装置的出水口相连的超滤装置，所述废水收集装置的出水口与所述超滤装置的连接管路上设置有pH调节剂加料口；与所述超滤装置的产水出口相连的反渗透装置；与所述超滤装置的浓水出口相连的化学混凝沉淀装置。本实用新型利用物理膜分离法和传统化学混凝沉淀，通过物理分离和化学混凝沉淀各自优势，先使得废水的浓度得以浓缩，再用少量的药剂通过化学混凝使废水浓液再一次浓缩，从而实现研磨废水处理过程中减少加药量的目的，并且回用大部分的水，具有处理效率高、设备占地少、回用效果好、运行费用低等特点。

技术领域

本实用新型属于水处理领域，尤其涉及一种研磨废水处理系统。

背景技术

化学机械研磨是晶片制造过程中实现晶圆表面全局平坦化的关键工序，研磨后需要用大量超纯水冲洗晶圆表面，是晶片制造过程中的主要耗水点。以一条8英寸晶片月生产能力为5万片的生产线为例，每日耗水量约为7000t，其中化学机械研磨用水量占30～40％。

化学机械研磨过程中产生的研磨废水具有如下特点：(1)废水水量较高，间歇性高浓度；(2)由于化学机械研磨工艺中要使用多种试剂，超纯水冲洗后又混入了晶片表面残留的研磨料，因此废水会含有多种有机物和无机物，导致废水的成分较为复杂；(3)废水的悬浮固体浓度和浊度较高，颗粒粒径较小，处于胶体稳定状态。

近年来，伴随着我国晶片制造产量高速增长，研磨废水量也持续倍增，给环境造成巨大的压力。因此，如何建设一套能够高效处理研磨废水的处理系统，是本领域技术人员急需解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种研磨废水处理系统，本实用新型提供的系统能高效地处理研磨废水。

本实用新型提供了一种研磨废水处理系统，包括：

废水收集装置；

与所述废水收集调整装置的出水口相连的超滤装置，所述废水收集装置的出水口与所述超滤装置的连接管路上设置有pH调节剂加料口；

与所述超滤装置的产水出口相连的反渗透装置；

与所述超滤装置的浓水出口相连的化学混凝沉淀装置。

优选的，所述废水收集装置内设置有搅拌设备。

优选的，所述超滤装置中设置的超滤膜为陶瓷烧结膜、金属膜或有机合成膜。

优选的，所述反渗透装置中设置的反渗透膜为苦咸水淡化膜。

优选的，还包括设置在所述超滤装置与所述反渗透装置之间的超滤产水槽；所述超滤产水槽的进水口与所述超滤装置的产水出口相连，所述超滤产水槽的出水口与所述反渗透装置的进水口相连。

优选的，所述反渗透装置的浓水出口与所述废水收集调整装置的进水口相连。

优选的，还包括设置在所述超滤装置与所述化学混凝装置之间中继槽，所述中继槽的进水口与所述超滤装置的浓水出口相连，所述中继槽的出水口与所述化学混凝装置的进水口相连。

优选的，所述中继槽内设置有鼓风搅拌设备。

优选的，还包括污泥浓缩装置，所述污泥浓缩装置的进口与所述化学混凝沉淀装置的浓液出口相连。