[实用新型]浸没式光刻机有效
| 申请号： | 201820936597.4 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN208444132U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 骆建钢;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透射图像传感器 浸没式光刻机 清洁装置 清洗 本实用新型 浸没式光刻 污染物分解 表面照射 曝光过程 设置位置 光刻胶 清洗液 浸没 晶圆 机具 去除 光照 清洁 污染 | ||
1.一种浸没式光刻机，包括透射图像传感器，所述透射图像传感器的设置位置令其在曝光过程中与晶圆一同被浸没在液体中，其特征在于，所述浸没式光刻机具有用于清洁所述透射图像传感器的清洁装置，所述清洁装置包括：
光照部，向所述透射图像传感器表面照射光线，以使所述透射图像传感器表面的光刻胶污染物分解；
清洗部，向所述透射图像传感器表面提供清洗液，对其进行清洗。
2.如权利要求1所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述光照部向所述透射图像传感器表面照射的光线频率与所述浸没式光刻机的曝光光源所发射的光线频率相同。
3.如权利要求2所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述光照部为镜组，能够将所述浸没式光刻机的曝光光源所产生的光线传输至所述透射图像传感器表面。
4.如权利要求1所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述光照部为深紫外激光发生器或等离子体放电灯。
5.如权利要求4所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述深紫外激光发生器包括发射不同频率深紫外光的多个激光发生器；或者
所述深紫外激光发生器为频率可调激光器。
6.如权利要求1所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述透射图像传感器表面覆盖有疏水涂层。
7.如权利要求1-6中任一项所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述清洗部包括喷头，所述喷头朝向所述透射图像传感器设置，清洗液从所述喷头出射的方向与所述透射图像传感器的表面所呈夹角为30～60度。
8.如权利要求7所述的浸没式光刻机，其特征在于，还包括排液口，所述喷头设置于所述透射图像传感器一侧上方，所述排液口位于所述透射图像传感器的另一侧，并与其邻接设置。
9.如权利要求1-6中任一项所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述清洗部向所述透射图像传感器表面提供的所述清洗液为超纯水。
10.如权利要求9所述的浸没式光刻机，其特征在于，所述清洗部与所述浸没式光刻机的浸液系统共用排水管路。
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