[实用新型]半导体晶元超音波清洗设备

权利要求书

1.半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)内设置有超声波清洗单元(2)，所述超声波清洗单元(2)由超声波清洗槽(22)、超声波发生器(21)及超声波振板(23)构成，所述超声波清洗槽(22)设置在机架(1)的右侧，所述超声波发生器(21)设置在机架(1)的左侧，所述超声波振板(23)设置在超声波清洗槽(22)的下端，并与超声波发生器(21)配合于超声波清洗槽(22)设置，所述机架(1)内设置有手动冲洗台(5)，所述手动冲洗台(5)位于超声波发生器(21)的上方设置有，所述机架(1)上设置有电气控制箱(6)，所述超声波清洗槽(22)上设置有进水阀(3)和排水阀(4)，与电气控制箱(6)相电连，所述手动冲洗台(5)的侧边上设置有水枪装置(9)和气枪装置(10)，与手动冲洗台(5)内产品相配合设置。

2.根据权利要求1所述的半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：所述超声波清洗槽(22)设有四台，呈田字形结构设置。

3.根据权利要求1或2所述的半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：所述超声波清洗槽(22)内设置有液位传感器(24)，至少设有3个，分别呈高中低三个位置位置在超声波清洗槽(22)内，并与电气控制箱(6)相连。

4.根据权利要求1所述的半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：所述电气控制箱(6)与触摸屏(7)及操作按键(8)相连。

5.根据权利要求1所述的半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：所述机架(1)的工作面上设置有提升门(11)。

6.根据权利要求1所述的半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：所述机架(1)的侧边上设置有观察窗。

7.根据权利要求3所述的半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：所述超声波清洗槽(22)上还设置有溢流口(12)。

8.根据权利要求1所述的半导体晶元超音波清洗设备，其特征在于：所述机架(1)内设置有防漏盘(13)，位于超声波清洗槽(22)和超声波发生器(21)的底端设置。