[实用新型]半导体单晶炉大尺寸温场有效

专利信息
申请号: 201820981578.3 申请日: 2018-06-25
公开(公告)号: CN208869724U 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 赖章田;贺贤汉;夏孝平;黄保强;河野贵之 申请(专利权)人: 上海汉虹精密机械有限公司
主分类号: C30B35/00 分类号: C30B35/00;C30B29/06
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人: 顾兰芳
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 隔热层 坩埚 石墨轴 炉腔 热屏 芯棒 半导体单晶 升降机构 温场 本实用新型 加热器 插接连接 上隔热层 下加热器 保护层 内热屏 内锥口 升降环 外热屏 外部 外壁 外锥 室内
【说明书】:

实用新型提供半导体单晶炉大尺寸温场,包括一炉腔室,炉腔室内设有一坩埚,坩埚的外壁设有一侧加热器,坩埚的下方还设有下加热器,炉腔室还包括侧隔热层,侧隔热层分别为外部侧隔热层、内部侧隔热层、上部侧隔热层和下部侧隔热层,下部侧隔热层与外部侧隔热层连接,上部侧隔热层与内部侧隔热层连接;坩埚上方设有热屏升降机构,热屏升降机构包括外热屏、内热屏、热屏保护层、升降环和上隔热层,坩埚下方设有石墨轴和芯棒,石墨轴上设有外锥口,芯棒上设有内锥口,石墨轴与芯棒插接连接。

技术领域

本实用新型涉及半导体设备制造行业领域,具体涉及半导体单晶炉大尺寸温场。

背景技术

近年来随着集成电路与半导体芯片的需求急速上升,大尺寸半导体芯片的需求越来越大,原来2“、4“、6“、8”半导体芯片已经无法满足行业使用需求,小尺寸晶体生长炉也无法满足发展,更多大尺寸芯片需求应运而生,相应的大尺寸晶体生长炉设备也急需更新换代。

原来小尺寸温场只有侧面加热器并且无法升降来调节其高度,也没有底部加热器,使得整个温场温度分布不均匀,温度梯度大,气流紊乱,导致坩埚内材料熔化不完全。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题,本实用新型提供半导体单晶炉大尺寸温场,以解决传统温场温度分布不均匀,温度梯度大气流紊乱的问题。

本实用新型的技术方案是:半导体单晶炉大尺寸温场,包括一炉腔室,所述炉腔室内设有一坩埚,所述坩埚的外壁设有一侧加热器,所述坩埚的下方还设有下加热器,所述炉腔室还包括侧隔热层,所述侧隔热层分别为外部侧隔热层、内部侧隔热层、上部侧隔热层和下部侧隔热层,所述下部侧隔热层与所述外部侧隔热层连接,所述上部侧隔热层与所述内部侧隔热层连接;

所述坩埚上方设有热屏升降机构,所述热屏升降机构包括外热屏、内热屏、热屏保护层、升降环和上隔热层,

所述坩埚下方设有石墨轴和芯棒,所述石墨轴上设有外锥口,所述芯棒上设有内锥口,所述石墨轴与所述芯棒插接连接。

本实用新型设计了可升降的热屏,高度可升降调节,满足大尺寸坩埚的化料不同温度梯度需求;增加了底部加热器,使坩埚底部的硅料能充分受热熔化完全,使整个温场加热均匀。石墨轴由原来的螺纹连接方式改为锥口连接,解决了在常温和高温反复作用下的螺纹咬死现象,石墨轴外锥口与芯棒内锥口设计,连接牢固,自动对中方便安装。

所述侧加热器还连接侧加热器电极,所述侧加热器电极通过电极螺母连接一盖子,所述侧加热器电极固定在所述炉腔室的下端部。

所述炉腔室还包括一底板,所述侧加热器电极穿过所述底板,所述侧加热器电极上依次套设有石英套和电极套,所述石英套和所述电极套位于底板与侧加热器电极之间。从而对电机起到保护作用。

所述石墨轴穿过所述底板,所述石墨轴上套设有套筒,所述套筒位于所述石墨轴与所述底板之间。本实用新型通过套筒对石墨轴进行保护。

所述套筒的顶端设有一套筒盖。从而起到限位作用。

所述炉腔室的内壁设有上部内保温屏和下部内保温屏。从而起到保温作用。

所述外热屏上方设有上保温筒。能够起到保温作用。

所述升降环包括中环、下环和反射保护环。本实用新型通过中环和下环固定需要提升的部件,反射保护环能够起到缓冲作用,避免损坏温场部件。

所述下加热器连接一下加热器电极。通过下加热器电极为下加热器供能。

所述下部侧隔热层的下方设有底隔热。从而起到隔热的效果。

所述上部侧隔热层的上方设有上部侧保温层。从而起到保温作用。

所述上部侧保温层上方设有密封环。从而起到密封作用。

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