[实用新型]一种新型图形化蓝宝石衬底有效
| 申请号： | 201820982260.7 | 申请日： | 2018-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN208352327U | 公开（公告）日： | 2019-01-08 |
| 发明（设计）人： | 武良文 | 申请（专利权）人： | 江西兆驰半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/22 | 分类号： | H01L33/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 330000 江西省南昌市南昌高新技*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 衬底 图形化蓝宝石 本实用新型 发光二极管 蓝宝石 底宽 制程 光提取效率 图形化表面 周期性图形 侧向成长 外延工艺 刻蚀 两组 放大 制作 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型图形化蓝宝石衬底，包括蓝宝石衬底（1），所述蓝宝石衬底的图形化表面上至少有两组大小不同的第一凹底（2）和第二凹底（3）形成周期性图形排列，其特征在于：所述第一凹底（2）的底宽L1大于第二凹底（3）的底宽L2, 且第一凹底（2）的底深W1小于第二凹底（3）的底深W2。
2.根据权利要求1所述的一种新型图形化蓝宝石衬底，其特征在于：所述第一凹底（2）的底宽L1为0.1至1um，所述第一凹底（2）的底深W1为0.05至1um。
3.根据权利要求2所述的一种新型图形化蓝宝石衬底，其特征在于：所述第一凹底（2）的底宽L1为0.2um，底深W1为0.2um。
4.根据权利要求1所述的一种新型图形化蓝宝石衬底，其特征在于：所述第二凹底（3）的底宽L2为0.01至0.5um，所述第二凹底（3）的底深W2为0.5至5um。
5.根据权利要求4所述的一种新型图形化蓝宝石衬底，其特征在于：所述第二凹底（3）的底宽L2为0.03um，底深W2为2um。
6.根据权利要求1所述的一种新型图形化蓝宝石衬底，其特征在于：所述蓝宝石衬底（1）采用C面蓝宝石材料。
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