[实用新型]半导电阻水绑扎带涂胶检查装置

说明书

本实用新型属于半导电阻水绑扎带涂胶装置领域，旨在提供一种半导电阻水绑扎带涂胶检查装置，其技术方案要点包括胶料槽、位于胶料槽内用于将基材压至胶料内的压辊，所述胶料槽的基材输出方向还设有用于检查涂胶均匀程度的至少两个光照架，两所述光照架之间设有用于翻转基材的抵触轮组。在胶料上料过程中，若局部胶料很薄，则容易在基材离开胶料槽后，在基材表面出现空白圆点，为了及时发现空白圆点、检查基材表面的涂覆效果，采用光照架对基材表面进行照射。由于胶料的表面光滑，而基材表面明显更粗糙，所以通过区分光线的镜面反射和漫反射，能够快速分辨出是否在大面积的胶料上存在有空白点；以便后期补涂或返工或摘取不合格品。

技术领域

本实用新型涉及半导电阻水绑扎带生产设备领域，特别涉及一种半导电阻水绑扎带涂胶检查装置。

背景技术

半导电阻水绑扎带是在织带基材的两面，涂刷不同材质的胶料，得到半导电层和阻水层。

通常采用的涂刷方式有浸渍和刮涂两种。浸渍的涂刷方式用于涂刷基材两面均需要涂覆的材料，浸渍时，基材从胶料槽中通过，基材两面粘上胶料；刮涂的方式是采用刷辊等部件，在基材的其中一面上刮涂。但这两种方式均可能存在的缺陷是：由于物料具有一定的粘度和表面张力，所以在涂覆过程中，如果局部厚度相较于其他位置更薄，该处液体容易向周围散开，最后形成该处一个空白圆点，在此空白圆点内直接露出基材，影响涂覆效果。而这种空白圆点又很小，难以被直接检查发现。

实用新型内容

本实用新型是提供一种半导电阻水绑扎带涂胶检查装置，便于快速检查到涂覆出现的空白点。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种半导电阻水绑扎带涂胶检查装置，包括胶料槽、位于胶料槽内用于将基材压至胶料内的压辊，所述胶料槽的基材输出方向还设有用于检查涂胶均匀程度的至少两个光照架，两所述光照架之间设有用于翻转基材的抵触轮组。

通过采用上述技术方案，在胶料上料过程中，由于胶料具有一定的表面张力和粘度，所以在胶料涂刷过程中，若局部胶料很薄，则容易在基材离开胶料槽后，在基材表面出现空白圆点，为了及时发现空白圆点、检查基材表面的涂覆效果，采用光照架对基材表面进行照射。由于胶料的表面光滑，而基材表面明显更粗糙，所以通过区分光线的镜面反射和漫反射，能够快速分辨出是否在大面积的胶料上存在有空白点；以便后期补涂或返工或摘取不合格品。

进一步设置：光照架包括水平面方向上投影落在基材上的架体、位于架体面向基材一侧的照明灯。

通过采用上述技术方案，架体限制了照明灯与基材之间的间距；若照明灯与基材之间距离过大或过小，都会影响到工作人员的视线观测基材表面光反射的情况。

进一步设置：所述照明灯设置为聚光灯，照明灯投射出的定向光束落在基材上的面积大于基材与架体投影相重合的部分。

通过采用上述技术方案，由于照明灯与基材之间有一定距离，所以采用聚光灯能够将光线尽量集中地照射到基材上，减少对基材表面检查的遗漏位置。

进一步设置：所述抵触轮组包括中心轴线水平设置的第一轮体、位于第一轮体背离胶料槽一侧的第二轮体，所述第二轮体的中心轴线也为水平设置。

通过采用上述技术方案，第一轮体和第二轮体均用于限位基材，使得基材在运动过程中，与光照架之间相互平行，被光照架上的光线照射时，基材的每个部分所受的光照强度趋于相等。

进一步设置：所述第一轮体和第二轮体之间设有夹片，所述夹片设置为两个竖直设置的片体，基材从两片体之间穿过。

通过采用上述技术方案，由于胶料需要涂覆在基材的两面，所以基材在被检查的过程中应当在检查完其中一面后，还需要翻转检查另一面。夹片用于限定基材翻转时的竖直位置部分。