[实用新型]一种碳化硅单晶生长装置有效

专利信息
申请号: 201820993040.4 申请日: 2018-06-26
公开(公告)号: CN208618006U 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 廖弘基;张洁;陈华荣 申请(专利权)人: 福建北电新材料科技有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 362211 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 石墨 软毡 石墨坩埚 保温层 碳化硅单晶 生长装置 上端 卡块 扭曲变形 气流变化 上端卡 石墨盖 覆盖 本实用新型 接触连接 外侧设置 脱离 负重 生长
【权利要求书】:

1.一种碳化硅单晶生长装置,包括石墨坩埚(1),其特征在于:所述石墨坩埚(1)的上端设置有石墨盖(2),石墨盖(2)与石墨坩埚(1)的上端接触连接;所述石墨盖(2)的下端中央设置有籽晶片(3),籽晶片(3)与石墨盖(2)的下端粘合固定;所述石墨坩埚(1)的外侧包裹有外侧石墨软毡保温层(4),石墨坩埚(1)的底部包裹有底部石墨软毡保温层(5),石墨坩埚(1)的上部包裹有上部石墨软毡保温层(6);所述上部石墨软毡保温层(6)的中央开设有测温孔(7);所述上部石墨软毡保温层(6)的上端设置有承重圆环(8),承重圆环(8)的外侧设置有卡块(9),卡块(9)与外侧石墨软毡保温层(4)的上端卡接固定;所述石墨坩埚(1)的最外层设置有感应线圈(10),感应线圈(10)分布在石墨坩埚(1)的外侧周围。

2.根据权利要求1所述的一种碳化硅单晶生长装置,其特征在于:所述石墨坩埚(1)和石墨盖(2)的厚度均为5-20mm。

3.根据权利要求1所述的一种碳化硅单晶生长装置,其特征在于:所述石墨坩埚(1)内放置有纯度为5N-6N的碳化硅粉末(11)。

4.根据权利要求1所述的一种碳化硅单晶生长装置,其特征在于:所述外侧石墨软毡保温层(4)、底部石墨软毡保温层(5)和上部石墨软毡保温层(6)的层数为1-4层,厚度为5-10mm。

5.根据权利要求1所述的一种碳化硅单晶生长装置,其特征在于:所述测温孔(7)的直径为10~30mm。

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