[实用新型]一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备

权利要求书

1.一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，包括外壳(1)、集液槽(6)、储液箱(9)、第一输送泵(11)、加热器(14)、流量控制阀(19)和控制器(21)，其特征在于：所述外壳(1)的内部安装有分隔板(2)，所述分隔板(2)的左侧安装有导流板(3)；

所述导流板(3)上安装有放置板(4)，所述导流板(3)的下部安装有集液槽(6)，所述集液槽(6)的下部安装有进液管(8)，所述进液管(8)的下端安装在储液箱(9)的上部；

所述储液箱(9)的右侧安装有输液管(10)，所述输液管(10)上安装有第一输送泵(11)，所述第一输送泵(11)通过固定座(17)固定在外壳(1)上，所述输液管(10)上安装有检测管(13)，所述输液管(10)通过管道固定座(12)固定在分隔板(2)上，所述输液管(10)的上端安装在加热器(14)上；

所述加热器(14)的左侧安装有出液管(15)，所述出液管(15)上安装有第二输送泵(16)，所述出液管(15)的下端安装有喷头(20)，所述出液管(15)上安装有流量控制阀(19)，所述外壳(1)的右侧内壁上安装有控制器(21)。

2.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述放置板(4)通过支撑杆(5)固定在导流板(3)的上表面，所述放置板(4)上设置有分布均匀的漏液孔(25)，所述导流板(3)向右下侧倾斜安装。

3.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述检测管(13)通过连接座(22)与输液管(10)固定连接，所述检测管(13)上设置有安置腔(23)，所述安置腔(23)内安装有温度传感器(24)。

4.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述出液管(15)上的第二输送泵(16)安置在分隔板(2)的左侧，所述出液管(15)通过支架(18)固定在外壳(1)上部的内壁上，所述出液管(15)上的喷头(20)正对放置板(4)的中间位置处。

5.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述集液槽(6)安装在导流板(3)的右下侧，所述集液槽(6)的内部安装有过滤网(7)，所述集液槽(6)与储液箱(9)通过进液管(8)相互连通。

6.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述控制器(21)通过传导线分别与第一输送泵(11)、加热器(14)、第二输送泵(16)、流量控制阀(19)和温度传感器(24)电性连接。