[实用新型]用于酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理的系统有效
申请号: | 201821003989.1 | 申请日: | 2018-06-27 |
公开(公告)号: | CN208685056U | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 龙正;欧阳锋;花慧洋 | 申请(专利权)人: | 江苏净拓环保科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C25C1/12;C25C7/00;B01D53/78;B01D53/68 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 傅靖 |
地址: | 215314 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻液 氯气 低酸度 酸度 氢氧化钠溶液 酸性蚀刻液 铜回收系统 氯气处理 循环再生 吸收率 三级处理系统 一级处理系统 本实用新型 混合均匀性 处理系统 大气环境 电解过程 浓缩分离 三级处理 完全溶解 刻蚀液 零排放 射流器 再生液 电解 生产成本 | ||
本实用新型涉及了一种用于酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理的系统。电解过程中生成的氯气进行过三级处理,首先,电解后的刻蚀液在再生液处理系统中被浓缩分离出高酸度蚀刻液和低酸度蚀刻液,高酸度蚀刻液可直接用作蚀刻液,而低酸度蚀刻液在一级处理系统中与氯气相混合生成高酸度蚀刻液,也被用作蚀刻液,降低了生产成本;未被完全溶解的氯气再次与氢氧化钠溶液混合,进一步降低氯气的含量,最后,流经三级处理系统排入大气,基本实现氯气零排放,保护了大气环境。另外,由于射流器的使用,大大提高了氯气与低酸度蚀刻液或氢氧化钠溶液的混合均匀性,提高了氯气的吸收率。
技术领域
本实用新型涉及工业废水、废气处理领域,特别涉及一种用于酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理的系统。
背景技术
酸性蚀刻液是一种用于印制电路板精细线路制作、多层板内层制作的蚀刻液。在印刷电路板酸性蚀刻废水的再生工艺中,电解槽阳极会生成大量氯气,既污染了空气,恶化了工作环境。市面上现有氯气回收系统大多结构复杂,造价较高,且处理过程中不能有效地对氯气进行二次利用,造成了资源浪费。因而,亟待技术人员解决上述问题。
实用新型内容
为了解决上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种用于酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理的系统,其结构设计简单,处理效率高,基本能实现零排放,且部分氯气能够得到二次利用,提高了资源利用率。
为了解决上述技术问题,本实用新型涉及了一种用于酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理的系统,其由依序设置的一级处理系统,二级处理系统和三级处理系统构成。其中,一级处理系统包括低酸度刻蚀液存储装置,第一射流器及第一泵。低酸度刻蚀液在第一泵的作用下通过进行循环,第一射流器设置于第一泵的下游,生成真空度,经铜离子分离系统排出的氯气自动进入第一射流器的吸入口,且与低酸度刻蚀液进行混合;二级处理系统包括氢氧化钠溶液存储装置,第二射流器及第二泵;氢氧化钠溶液在第二泵的作用下通过进行循环,第二射流器设置于第二泵的下游,生成真空度,经一级处理系统排出的氯气自动进入第二射流器的吸入口与氢氧化钠溶液进行混合;三级处理系统为塔处理系统,对经二级处理系统排出的氯气进行最终处理。
电解过程中生成的氯气进行过三级处理,首先,电解后的刻蚀液在再生液处理系统中被浓缩分离出高酸度蚀刻液和低酸度蚀刻液,高酸度蚀刻液可直接用作蚀刻液,而低酸度蚀刻液在一级处理系统中与氯气相混合生成高酸度蚀刻液,也被用作蚀刻液,降低了生产成本;未被完全溶解的氯气再次与氢氧化钠溶液混合,进一步降低氯气的含量,最后,流经三级处理系统排入大气,基本实现氯气零排放,保护了大气环境。另外,由于射流器的使用,大大提高了氯气与低酸度蚀刻液或氢氧化钠溶液的混合均匀性,提高了氯气的吸收率。
作为本实用新型的进一步改进,在低酸度刻蚀液存储装置内设置有第一喷淋装置,用于对经铜离子分离系统排出,且未流经第一射流器的氯气进行吸收。在氢氧化钠溶液存储装置内设置有第二喷淋装置,用于对经上述一级处理系统排出,且未流经第二射流器的氯气进行吸收。第一喷淋装置和第二喷淋装置均包括多个呈线性排列的高压喷头,用于分别对低酸度刻蚀液、氢氧化钠溶液进行雾化。
采用上述方式设置,将低酸度刻蚀液及氢氧化钠溶液进行雾化,而后与氯气进行溶合,从而尽可能地提高氯气与低酸度刻蚀液及氢氧化钠溶液之间的溶合度,提高氯气溶解量。
作为本实用新型的进一步改进,高压喷头包括呈上大下小的圆锥形喷头本体,在喷头本体的内壁上开设有螺旋状凹槽。
采用上述方式设置,使得低酸度刻蚀液及氢氧化钠溶液通过高压喷头呈螺旋状喷出,使其具有较大的运动动能,提高雾化程度。
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