[实用新型]一种用于旋涂机的主轴

说明书

一种用于旋涂机的主轴，属于旋涂机主轴领域，所述转子轴内设置有通孔，主轴内设置有水冷套，转子和定子两端分别设置有两个和两个以上轴承，主轴上部设置有防水盖，主轴末端设置有编码器，所述主轴的转速在0.2‑1000转/分，所述主轴的外圆跳动≤0.003mm、端面跳动≤0.003mm，通过利用本实用新型能够提高大型基板的涂胶均匀度，可减少胶液的浪费，提高胶液旋涂的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及一种主轴，特别涉及一种用于旋涂机的主轴，属于旋涂机主轴领域。

背景技术

旋涂机是半导体、光盘、有机EL显示器、液晶显示器以及核聚变领域多广泛应用的一种设备，是将胶液按照一定的流量滴在水平设置的基板上，利用旋转的方式在基板表面形成一层均匀均匀的胶层，然后根据需要进行相应的工艺处理。以半导体方面的光刻胶为例，涂覆光刻胶负胶后利用显影、曝光等光刻方式在半导体基板光刻胶表面形成图形，然后在光刻胶图形上进行溅射、CVD、PVD等工艺处理，形成相应的图形，最后再剥离光刻胶，在基板表面留下所需的电路图形。

半导体、光盘等是在较小的基板上进行涂胶的，在液晶基板等大型化的基板上进行涂胶时，如果利用旋转涂胶方式进行涂胶，需要在大型基板上利用较慢的速度进行旋转，利用离心力将胶从中心位置逐步扩展到周边位置，涂覆时，如果速度过快，就会出现胶液的浪费，厚度的不均，因此，要求旋涂机具有相当高的平面度、还要求很慢的旋转速度，这就要求旋涂机主轴具有相当高的平稳性。

发明内容

针对大型基板旋涂机对主轴平稳性要求，本实用新型提供一种用于旋涂机的主轴，其目的是提高主轴的平稳性，具有低速运转的稳定性，减少胶液的浪费，满足大型基板在涂胶过程中能够得到均匀的膜厚。

本实用新型的技术方案是：一种用于旋涂机的主轴，包括设置在主轴壳体内周的定子、设置在转子轴外周的转子，所述转子轴内设置有通孔，主轴内设置有水冷套，转子和定子两端分别设置有多个轴承，主轴全部设置有防水盖，主轴末端设置有编码器，所述主轴的转速在0.2-1000转/分，所述主轴的外圆跳动≤0.003mm、端面跳动≤0.003mm；

进一步，所述主轴末端设置有进水孔、出水孔、主轴电源线口和编码器出线口；

进一步，所述主轴使用时垂直向上，主轴向上端面上设置有工作台，主轴端面上设置有工作台连接丝孔。

本实用新型具有的积极效果是，通过在旋涂机的主轴内设置水冷套，能够保证主轴子设定温度下进行运转，可防止由于温度变化带来主轴的相关参数变化，防止因温度变化引起制造产品过程中带来的不合格；通过在转子和定子两端分别设置有两个和两个以上轴承，可提高主轴的负荷承载能力；通过将主轴的转速设置在0.2-1000转/分，主轴的外圆跳动≤0.003mm、端面跳动≤0.003mm，能够保证主轴的运转速度，特别是能够保证主轴的低速运转能力，可防止在涂胶过程中胶液的浪费，能够提高胶液的利用率，保证涂胶厚度的均匀度；通过在主轴上设置编码器，能够对主轴的转速进行监控，也可利用编码器与伺服驱动器控制系统配合进行C轴插补。通过利用本实用新型能够提高大型基板的涂胶均匀度，可减少胶液的浪费，提高胶液旋涂的稳定性。

附图说明

图1本实用新型的剖面结构示意图。

图2主轴末端面的仰视示意图。

图3主轴上端面的俯视示意图。

标号说明：10-壳体、11-转子轴、12a-定子、12b-转子、12c-线包、13a-上端轴承、13b-下端轴承、14-水冷套、15-通孔、16-编码器、17-防水盖、18-后盖、19-冷却水水管接头、21-进水孔、22-出水孔、23-电源出线口、24-编码器出线口、25-工作台连接丝孔。

具体实施方式