[实用新型]一种用于半导体基板化学液处理的样品架有效
| 申请号： | 201821033553.7 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN208570560U | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 郭逦达;叶亚宽;杨立红 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 102600 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 样品架 半导体基板 竖向杆 侧面 化学液 表面处理领域 四边形框架 垂直放置 对称设置 横向凹槽 生产效率 稳固装置 样品清洗 用料 相等 容纳 申请 | ||
1.一种用于半导体基板化学液处理的样品架，其特征在于，所述样品架包括：
主体，所述主体包括对称设置的且与底部所在水平面角度相等的第一侧面和第二侧面，所述第一侧面和第二侧面均包括四边形框架和多条竖向杆；和
底部，所述底部包括稳固装置。
2.根据权利要求1所述的样品架，其特征在于，所述第一侧面和第二侧面与底部所在水平面的角度为钝角，所述钝角大于90°小于160°。
3.根据权利要求2所述的样品架，其特征在于，所述钝角为100°-145°。
4.根据权利要求1所述的样品架，其特征在于，所述四边形框架包括固定连接的横向杆和纵向杆。
5.根据权利要求4所述的样品架，其特征在于，所述底部的稳固装置被构造为分别与所述第一侧面和第二侧面下边缘的横向杆固定连接的长条状结构。
6.根据权利要求1所述的样品架，其特征在于，所述稳固装置被构造为至少两条以上的相同形状的长方体或梯形板。
7.根据权利要求4所述的样品架，其特征在于，在所述稳固装置上设置有容纳第一侧面和第二侧面的下边缘横向杆的凹槽或孔。
8.根据权利要求1所述的样品架，其特征在于，所述第一侧面和所述第二侧面的所述多条竖向杆上设置有横向凹槽。
9.根据权利要求4所述的样品架，其特征在于，所述样品架进一步包括等高度设置的至少两条横杆，分别被固定设置在所述主体的两端。
10.根据权利要求9所述的样品架，其特征在于，所述横杆的两端分别固定连接在所述第一侧面和第二侧面的所述纵向杆上。
11.根据权利要求9所述的样品架，其特征在于，还包括与所述主体固定连接的把手，其中所述把手包括相互连接的横梁和竖杆。
12.根据权利要求11所述的样品架，其特征在于，所述把手呈倒T形，其中所述把手的横梁的两端分别连接至所述第一侧面和第二侧面的所述四边形框架的纵向杆上。
13.根据权利要求11所述的样品架，其特征在于，所述把手呈T形，所述把手的竖杆与所述横杆固定连接。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
