[实用新型]取像装置有效
| 申请号： | 201821036419.2 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN208314806U | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 钟炜竣;巫仁杰 | 申请（专利权）人： | 金佶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/00 | 分类号： | G06K9/00 |
| 代理公司： | 深圳市金笔知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 44297 | 代理人： | 赵南阳;胡清方 |
| 地址： | 中国台湾新竹市东区(*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 遮光结构 吸光层 开口 影像撷取元件 空间滤波器 取像装置 反射层 透光基材 像素区 交替排列 堆栈 | ||
1.一种取像装置，其特征在于，包括：
一影像撷取元件，具有多个像素区；以及
一空间滤波器，设置于所述影像撷取元件上，其中所述空间滤波器包括：
多个透光基材；以及
多个遮光结构，与多个所述透光基材沿一第一方向交替排列，其中每一所述遮光结构至少包括一吸光层，具有分别对应多个像素区的多个第一开口；多个所述遮光结构的至少一所述遮光结构包括相堆栈的一反射层及一所述吸光层，所述反射层具有多个第二开口，分别重叠于至少一所述遮光结构的所述吸光层的多个第一开口，所述反射层的每一所述第二开口在一第二方向上具有一宽度W2，所述吸光层的每一所述第一开口在所述第二方向上具有一宽度W1。
2.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：其中每一所述第一开口的所述宽度W1与每一所述第二开口的所述宽度W2满足：W2W1。
3.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：其中每一所述第一开口的所述宽度W1与每一所述第二开口的所述宽度W2满足：0.2W1W20.8W1。
4.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：其中所述吸光层的厚度与所述反射层的厚度的和小于所述透光基材的厚度。
5.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：其中每一所述遮光结构具有相堆栈的所述反射层及所述吸光层。
6.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：其中多个所述遮光结构包括一第一遮光结构以及一第二遮光结构，所述第一遮光结构包括相堆栈的所述反射层及所述吸光层，所述第二遮光结构包括一吸光层而不包括所述反射层。
7.根据权利要求6所述的取像装置，其特征在于：其中所述第一遮光结构较所述第二遮光结构靠近所述影像撷取元件。
8.根据权利要求6所述的取像装置，其特征在于：其中所述第一遮光结构较所述第二遮光结构远离所述影像撷取元件。
9.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：还包括：
一盖板，具有供一手指按压的一按压面，其中所述空间滤波器位于所述盖板与所述影像撷取元件之间。
10.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：还包括：
一显示面板，其中所述空间滤波器位于所述显示面板与所述影像撷取元件之间。
11.根据权利要求1所述的取像装置，其特征在于：还包括：
一滤光层，位于所述影像撷取元件上。
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