[实用新型]图形化装置

权利要求书

1.一种图形化装置，其特征在于，所述图形化装置包括：反应腔、供氧通道、加热载台、对位机构及光源，所述加热载台、对位机构及光源均设置于所述反应腔内；

所述加热载台用于承载并加热一基板，以对所述基板上的纳米金属线溶液进行固化形成纳米金属线导电层；

所述对位机构用于承载并移动一光罩，以将所述光罩与所述基板对准；

所述供氧通道用于向所述反应腔中通入含氧材料，所述光源用于发出一设定波长的光线，所述设定波长的光线通过所述光罩后照射至所述基板上，在所述含氧材料的作用下将所述光罩上的图形转移到所述纳米金属线导电层上。

2.如权利要求1所述的图形化装置，其特征在于，所述设定波长为320nm-380nm。

3.如权利要求1所述的图形化装置，其特征在于，所述对位机构包括移动框架，所述移动框架用于承载所述光罩并带动所述光罩在平行于所述加热载台的平面内移动，以将所述光罩与所述基板对准。

4.如权利要求3所述的图形化装置，其特征在于，所述对位机构还包括对准检测器，所述加热载台上及所述光罩上均设置有对准检测标记，所述对准检测器控制所述移动框架移动，以将所述光罩上的对准检测标记与所述基板上的对准检测标记对准。

5.如权利要求1所述的图形化装置，其特征在于，所述含氧材料中包括氧气，所述反应腔内设置有氧气监控器，所述供氧通道内设置有氧气调节器，所述氧气监控器用于监控所述反应腔中氧气的浓度，所述氧气调节器用于调节流入所述反应腔中的氧气的流量。

6.如权利要求5所述的图形化装置，其特征在于，所述反应腔内还设置有排风口，所述排风口内设置有抽气机，所述抽气机通过所述排风口将所述反应腔内的气体抽出。

7.如权利要求1所述的图形化装置，其特征在于，所述光源具有光强探测器及光强调节器，所述光强探测器用于检测所述设定波长的光线的光强，所述光强调节器用于调节所述设定波长的光线的光强。

8.如权利要求1所述的图形化装置，其特征在于，所述图形化装置还包括一反射罩，所述反射罩设置于所述反应腔内，且位于所述光源背离所述对位机构的一侧。

9.如权利要求1所述的图形化装置，其特征在于，所述加热载台用于承载所述基板的表面上设置有多个加热源，多个所述加热源呈点阵的形式分布在所述加热载台的表面。

10.如权利要求9所述的图形化装置，其特征在于，所述加热载台用于承载所述基板的表面上还设置温度监控器，所述加热源具有温度调节器，所述温度监控器用于检测所述基板的温度，所述温度调节器用于调节所述加热源对所述基板进行加热的温度。