[实用新型]一种用于质子治疗系统的高精度能量狭缝有效
申请号: | 201821054325.8 | 申请日: | 2018-07-04 |
公开(公告)号: | CN208975012U | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 王雷;王峰;符振辉;朱晓锋 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 罗焕清 |
地址: | 10241*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 狭缝 质子治疗系统 质子束流 铍铝合金 本实用新型 传输效率 目标能量 石墨材质 相邻圆柱 可控制 束流 涂覆 治疗 保证 | ||
1.一种用于质子治疗系统的高精度能量狭缝,其特征在于:包括狭缝本体(1),所述狭缝本体(1)的形状为长方体,所述狭缝本体(1)的长度L为20-24cm,所述狭缝本体(1)由密度为2g/cm3至3g/cm3的石墨材质制成,所述狭缝本体(1)上设有圆柱形狭缝(2)若干,所述圆柱形狭缝(2)的中心线在同一平面内,相邻圆柱形狭缝(2)的间距为0.5cm至1cm,所述圆柱形狭缝(2)的孔径范围为2mm至10mm,每个圆柱形狭缝(2)内均涂覆有铍铝合金涂层(3),所述铍铝合金涂层(3)的厚度不超过0.1mm。
2.根据权利要求1所述的用于质子治疗系统的高精度能量狭缝,其特征在于:所述狭缝本体(1)的两个侧壁S上设有铝涂层(4),所述铝涂层(4)的厚度不低于1cm。
3.根据权利要求1所述的用于质子治疗系统的高精度能量狭缝,其特征在于:所述圆柱形狭缝(2)的数量为五个,自下而上分别为圆柱形狭缝一(21)、圆柱形狭缝二(22)、圆柱形狭缝三(23)、圆柱形狭缝四(24)和圆柱形狭缝五(25),所述圆柱形狭缝一(21)的孔径为2mm,所述圆柱形狭缝一(21)内壁的铍铝合金涂层(3)的厚度不超过0.01mm,所述圆柱形狭缝二(22)的孔径为3mm,所述圆柱形狭缝二(22)内壁的铍铝合金涂层(3)的厚度不超过0.01mm,所述圆柱形狭缝三(23)的孔径为5mm,所述圆柱形狭缝三(23)内壁的铍铝合金涂层(3)的厚度不超过0.03mm,所述圆柱形狭缝四(24)的孔径为7.5mm,所述圆柱形狭缝四(24)内壁的铍铝合金涂层(3)的厚度不超过0.05mm,所述圆柱形狭缝五(25)的孔径为10mm,所述圆柱形狭缝五(25)内壁的铍铝合金涂层(3)的厚度不超过0.1mm。
4.根据权利要求3所述的用于质子治疗系统的高精度能量狭缝,其特征在于:所述圆柱形狭缝一(21)与圆柱形狭缝二(22)的间距与圆柱形狭缝二(22)与圆柱形狭缝三(23)的间距相同且均为1cm,所述圆柱形狭缝三(23)与圆柱形狭缝四(24)的间距和圆柱形狭缝四(24)与圆柱形狭缝五(25)的间距相同且均为0.5cm。
5.根据权利要求1所述的用于质子治疗系统的高精度能量狭缝,其特征在于:所述圆柱形狭缝(2)的数量为七个,自下而上分别为圆柱形狭缝一(21)、圆柱形狭缝二(22)、圆柱形狭缝三(23)、圆柱形狭缝四(24)、圆柱形狭缝五(25)、圆柱形狭缝六(26)和圆柱形狭缝七(27),所述圆柱形狭缝一(21)的孔径为1.2mm,所述圆柱形狭缝一(21)内壁的铍铝合金涂层的厚度不超过0.01mm,所述圆柱形狭缝二(22)的孔径为2.2mm,所述圆柱形狭缝二(22)内壁的铍铝合金涂层的厚度不超过0.03mm,所述圆柱形狭缝三(23)的孔径为3.5mm,所述圆柱形狭缝三(23)内壁的铍铝合金涂层的厚度不超过0.05mm,所述圆柱形狭缝四(24)的孔径为5mm,所述圆柱形狭缝四(24)内壁的铍铝合金涂层的厚度不超过0.1mm,所述圆柱形狭缝五(25)的孔径为4mm,所述圆柱形狭缝五(25)内壁的铍铝合金涂层的厚度不超过0.05mm,所述圆柱形狭缝六(26)的孔径为2mm,所述圆柱形狭缝六(26)内壁的铍铝合金涂层的厚度不超过0.03mm,所述圆柱形狭缝七(27)的孔径为1mm,所述圆柱形狭缝七(27)内壁的铍铝合金涂层的厚度不超过0.01mm。
6.根据权利要求1所述的用于质子治疗系统的高精度能量狭缝,其特征在于:所述圆柱形狭缝一(21)与圆柱形狭缝二(22)的间距、圆柱形狭缝二(22)与圆柱形狭缝三(23)的间距、圆柱形狭缝五(25)与圆柱形狭缝六(26)的间距和圆柱形狭缝六(26)与圆柱形狭缝七(27)的间距均相同且为1cm,圆柱形狭缝三(23)与圆柱形狭缝四(24)的间距和圆柱形狭缝四(24)与圆柱形狭缝五(25)的间距相同且为0.5cm。
7.根据权利要求1所述的用于质子治疗系统的高精度能量狭缝,其特征在于:还包括水冷机构(7),所述水冷机构(7)嵌设在狭缝本体(1)的另两个侧壁S`上。
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