[实用新型]研磨设备

说明书

本实用新型提供一种研磨设备，适于对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。研磨设备包括上定盘、下定盘、研磨垫、研磨液收集盆、金属检测器以及控制器。上定盘位于下定盘的上方。研磨垫配置于下定盘或上定盘的其中之一上。研磨液收集盆位于下定盘的下方，且研磨液收集盆适于收集从下定盘流出的研磨液。金属检测器连接于研磨液收集盆，且金属检测器适于检测研磨液收集盆的研磨液的金属浓度。控制器电性连接于下定盘、上定盘以及金属检测器。

技术领域

本实用新型涉及一种研磨设备，尤其涉及一种适于对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序，且具有金属检测器的研磨设备。

背景技术

一般玻璃通孔基板进行金属填孔后，玻璃表面也会有生成一层厚金属。一般玻璃产业常用的方式是通过砂布带或砂布轮扫过玻璃的表面，以打磨抛光的方式移除玻璃表面上的金属。但是，受限于金属厚度均匀性不佳，若打磨抛光的时间不足，则玻璃表面仍会有残留的金属。而若打磨抛光的时间过长，虽可能可以完全地移除璃表面上的金属，但可能会造成玻璃厚度的减薄或凹陷深度增加，进而提升了玻璃破裂的风险。

因此，如何有效地移除玻璃表面上的金属，并且可以在完全地移除玻璃表面上的金属之后，快速地停止移除的程序，以降低玻璃破裂的风险，实已成目前亟欲解决的课题。

实用新型内容

本实用新型提供一种研磨设备，其适于对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序，且研磨设备可通过金属检测器来继续或停止研磨程序。

本实用新型的研磨设备适于对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。研磨设备包括下定盘、上定盘、研磨垫、研磨液收集盆、金属检测器以及控制器。上定盘位于下定盘的上方。研磨垫配置于下定盘或上定盘的其中之一上。研磨液收集盆位于下定盘的下方，且研磨液收集盆适于收集从下定盘流出的研磨液。金属检测器连接于研磨液收集盆，且金属检测器适于检测研磨液收集盆的研磨液的金属浓度。控制器电性连接于下定盘、上定盘以及金属检测器。

在本实用新型的一实施例中，上述的金属层的材质包括铜，且所述金属检测器为铜离子检测器。

在本实用新型的一实施例中，上述的绝缘底材包括玻璃底材。

在本实用新型的一实施例中，上述的研磨垫配置于上定盘上，且研磨设备还包括吸附垫。吸附垫配置于下定盘上，且研磨设备通过研磨方式对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。

在本实用新型的一实施例中，上述的研磨垫配置于上定盘上，且研磨设备还包括真空吸盘。真空吸盘配置于下定盘上，且研磨设备通过研磨方式对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。

在本实用新型的一实施例中，上述的研磨垫配置于下定盘上，且研磨设备还包括吸附垫。吸附垫配置于上定盘上，且研磨设备通过研磨方式对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。

在本实用新型的一实施例中，上述的研磨垫配置于下定盘上，且研磨设备还包括真空吸盘。真空吸盘配置于上定盘上，且研磨设备通过研磨方式对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。

在本实用新型的一实施例中，上述的上定盘包括柱状滚轮，且研磨垫配置于柱状滚轮上。

在本实用新型的一实施例中，上述的研磨垫配置于上定盘上，且研磨设备还包括吸附垫。吸附垫配置于下定盘上，且研磨设备通过研磨方式对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。

在本实用新型的一实施例中，上述的研磨垫配置于上定盘上，且研磨设备还包括真空吸盘。真空吸盘，配置于下定盘上，且研磨设备通过研磨方式对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序。

基于上述，研磨设备可通过金属检测器进行临场(in-situ)的监测，以使研磨设备在对覆盖有金属层的绝缘底材进行研磨程序时，可以通过金属检测器来检测研磨液收集盆所收集的研磨液的光学性质或导电度，以推算出附加产物中金属的浓度。进而可以判断继续或停止研磨程序。