[实用新型]表面带有镀层的贵金属制品有效

专利信息
申请号: 201821070054.5 申请日: 2018-07-06
公开(公告)号: CN210438817U 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: 王彤;唐双喜 申请(专利权)人: 深圳市联合蓝海科技开发有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/24;C23C14/32;C23C14/34;C23C28/00
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 刘依云;乔雪微
地址: 518019 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 表面 带有 镀层 贵金属 制品
【说明书】:

实用新型涉及黄金表面镀层领域,公开了一种表面带有镀层的贵金属制品。贵金属制品包括贵金属基体和附着在贵金属基体表面的物理气相沉积层,所述贵金属为黄金或者银。最终制得的贵金属制品可呈现多种颜色,形成的膜层稳定,不容易脱落,且检测时,贵金属制品的表面膜层不会影响贵金属基体的成色。

技术领域

本实用新型涉及黄金表面镀层领域,具体涉及一种表面带有镀层的贵金属制品。

背景技术

黄金制品颜色鲜亮,稳定性好,通常作为首饰,广受消费者欢迎。目前黄金制品的生产工艺主要包括铸蜡、倒模、表面修边整形处理。为了提高黄金制品表面的光泽度,通常采用电镀的方法对黄金制品的表面进行处理。

CN106521594A公开了一种K金加工成黄金本色的制造方法及其设备,预先制备首饰半成品;对首饰半成品进行电镀加工,使其外部的颜色还原为黄金的本色;对电镀后的首饰半成品进行表面处理,形成首饰成品。

但采用电镀的方法在黄金制品表面镀膜时,黄金制品表面的膜层不稳定,容易剥离脱落。

CN107675136A公开了一种工件表面物理气相沉积(PVD)镀膜的方法,待镀工件放入镀膜室抽真空、加热,之后通氩气、对待镀工件进行离子轰击处理,再通入工作气体,对待镀工件施加偏压,在待镀工件上沉积相应材料的镀层。

CN105803412A公开了空速管表面的PVD镀层及其制备方法,其在抛光后的空速管基体表面上,使用物理气相沉积法镀单一金属镀层。

以上方法采用PVD方法在工件表面镀膜,提高镀膜与待镀工件的结合能力。但目前,PVD仅适用于在硬度较高的材质表面镀膜,在硬度较低(比如摩氏硬度为2-3)的材质表面镀膜时,膜层与基材之间的结合力仍较弱。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的在黄金表面做镀层不稳定的问题,提供一种表面带有镀层的贵金属制品,贵金属制品表面形成不同种类的膜层,所形成的膜层结构稳定,且可呈现不同的颜色。

为了实现上述目的,本实用新型第一方面提供一种贵金属制品,该贵金属制品包括:贵金属基体和附着在贵金属基体表面的物理气相沉积层。

优选地,贵金属基体中黄金的含量为33-99.99重量%,银的含量为92.5-99重量%。

优选地,贵金属基体中黄金的含量为99-99.99重量%。

优选地,物理气相沉积层的厚度为10nm-50μm。

优选地,物理气相沉积层的材质为Ni、Ti、Zn、Cr、Mg、Nb、Sn、Al、In、Fe、Zr、Si、Cu、Ta、Ge、Ag、Co、Au、Gd、La、Y、Ce、W、Hf、Mo、CrN、TiN、TiAlCN、TiCN、TiAlN、AlTiN、TiB2、ZrN、FeCo、AlSi、TiSi、CrSi、ZnAl、TiZn、TiAl、TiZr、TiSi、TiNi、NiAl、NiV、NiFe、金铜合金和DLC中的一种或多种,优选为金铜合金。

优选地,所述贵金属基体的表面粗糙度为0.001μm-50μm。

优选地,所述贵金属基体的表面粗糙度为0.005μm-0.2μm。

贵金属基体的表面粗糙度在0.001-50μm之间,经过清洗之后,在100-150℃烘干,采用物理气相沉积更容易在贵金属基体表面镀膜,且所形成的膜层更加稳定,耐磨性更佳。采用PVD在贵金属基体表面镀膜,可形成色彩丰富的膜层,改善贵金属制品基体单一的金色,该颜色的改变不会影响贵金属基体的成色。

附图说明

图1是实施例1中贵金属制品的结构示意图;

图2是实施例13中贵金属制品的结构示意图;

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