[实用新型]硅片清洗用的集中供热系统和硅片清洗系统

说明书

本实用新型涉及一种硅片清洗用的集中供热系统和硅片清洗系统。该集中供热系统包括清洗机水漂洗槽、加热装置、输水组件和控制系统。加热装置用于给清洗机水漂洗槽内的水加热。输水组件与清洗机水漂洗槽相连，用以将清洗机水漂洗槽内的热水输送给插片机上料槽。当然，输水组件也可将水供给上游侧的上游漂洗槽使用。控制系统用于控制加热装置和输水组件的运转。应用该集中供热系统，可使插片机的作业效率得到提升。此外，清洗机水漂洗槽内的水经过漂洗作业后没有直接排放，而是循环再利用。这样有利于节约水资源。而且，这种集中加热和供热方式也使得各个槽体的水温上升速度都较快，加热效率较高。

技术领域

本实用新型涉及供热设备领域，特别是涉及硅片清洗用的集中供热系统和硅片清洗系统。

背景技术

硅片清洗系统一般包括脱胶机、插片机和清洗机。目前，该系统在使用时，插片机的插片机上料水槽如果水温过低，会导致硅片上的硅粉不能脱离硅片表面，从而造成了分片困难和前侧出水口容易堵塞。另外，当水温过低时，现有做法是将插片机上料槽内的水进行大幅度更换。也就是切换插片机上料槽内的水。切换过程中如果外界水源温度也较低，还需要先对外界水源先加热。这样使得整个切换过程比较费时。上述各方面因素使得插片机的作业效率较低。

实用新型内容

基于此，有必要针对插片机作业效率较低的问题，提供一种硅片清洗用的集中供热系统。

一种硅片清洗用的集中供热系统，包括：

清洗机水漂洗槽；

加热装置，所述加热装置用于给所述清洗机水漂洗槽内的水加热；

输水组件，所述输水组件与所述清洗机水漂洗槽相连，用以将所述清洗机水漂洗槽内的热水输送给插片机上料槽；

控制系统，所述控制系统用于控制所述加热装置和输水组件的运转。

上述集中供热系统中，加热装置可对清洗机水漂洗槽内的水进行加热，清洗机水漂洗槽内的热水可通过输水组件输送给插片机上料槽。这样，热水不仅可以供清洗机水漂洗槽使用，还可使插片机上料槽内的水的温度控制在一个合适范围。从而有利于硅片上的硅粉脱离，使分片较为容易且前侧出水口不容易堵塞。而且，插片机上料槽内的水通过较短时间的切换就可保证水温在一个合适范围。上述因素使得插片机的作业效率得到提升。此外，清洗机水漂洗槽内的水经过漂洗作业后没有直接排放，而是流经插片机上料槽使用。这样有利于节约水资源。而且，这种集中加热和供热方式使得各个槽体的水温上升速度都较快，加热效率较高。

在其中一个实施例中，

所述输水组件包括：

水箱，所述水箱通过溢流水管与所述清洗机水漂洗槽设置的热水溢流口连通；

水泵，所述水泵与所述水箱相连；

第一水管，所述第一水管的一端与所述水泵相连，用以将水泵从水箱抽出的热水输送给插片机上料槽。

在其中一个实施例中，还包括：

第二水管，所述第二水管一端与所述第一水管连通，用以将第一水管的热水输送给所述清洗机水漂洗槽上游侧的上游漂洗槽。

在其中一个实施例中，所述水箱内设置有第一液位传感器，所述控制系统根据接收到的第一液位传感器发送的水箱液位信号控制水泵的运转。

在其中一个实施例中，所述第一水管上设有控制阀；所述控制系统用于控制所述控制阀的开启程度。

在其中一个实施例中，还包括设置在所述上游漂洗槽的第二液位传感器；所述控制系统根据接收到的第二液位传感器发送的漂洗槽液位信号控制所述控制阀的开启程度。