[实用新型]电磁屏蔽膜和线路板有效

专利信息
申请号: 201821077504.3 申请日: 2018-07-06
公开(公告)号: CN208425127U 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 苏陟 申请(专利权)人: 广州方邦电子股份有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;H05K1/02
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 梁顺宜;郝传鑫
地址: 510530 广东省广州市广州高*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电磁屏蔽膜 胶膜层 屏蔽层 线路板 非平整表面 挥发物 地层 通孔 电子技术领域 起泡 凹陷位置 胶类物质 上下表面 电荷 接地 爆板 刺穿 导出 分层 胶量 排出 排气 挤压 剥离 贯穿
【说明书】:

实用新型涉及电子技术领域,公开了一种电磁屏蔽膜和线路板,其中,电磁屏蔽膜包括屏蔽层和胶膜层,通过胶膜层设于屏蔽层上,屏蔽层靠近胶膜层的一面为非平整表面,并且在屏蔽层上设置贯穿其上下表面的通孔,有利于在高温时胶膜层中挥发物通过通孔排气,以避免在高温时胶膜层中挥发物难以排出,从而避免了电磁屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离,进而确保了电磁屏蔽膜接地并将干扰电荷导出;此外,通过屏蔽层的非平整表面在电磁屏蔽膜与线路板压合时刺穿胶膜层并与线路板的地层连接,同时胶类物质被挤压到非平整表面的凹陷位置,以增大容胶量,从而不容易出现爆板现象,确保了屏蔽层与线路板的地层连接。

技术领域

本实用新型涉及电子技术领域,特别是涉及一种电磁屏蔽膜和线路板。

背景技术

随着电子工业的迅速发展,电子产品进一步向小型化,轻量化,组装高密度化发展,极大地推动挠性电路板的发展,从而实现元件装置和导线连接一体化。挠性电路板可广泛应用于手机、液晶显示、通信和航天等行业。

在国际市场的推动下,功能挠性电路板在挠性电路板市场中占主导地位,而评价功能挠性电路板性能的一项重要指标是电磁屏蔽(Electromagnetic InterferenceShielding,简称EMI Shielding)。随着手机等通讯设备功能的整合,其内部组件急剧高频高速化。例如:手机功能除了原有的音频传播功能外,照相功能已成为必要功能,且WLAN(Wireless Local Area Networks,无线局域网)、GPS(Global Positioning System,全球定位系统)以及上网功能已普及,再加上未来的感测组件的整合,组件急剧高频高速化的趋势更加不可避免。在高频及高速化的驱动下所引发的组件内部及外部的电磁干扰、信号在传输中衰减以及插入损耗和抖动问题逐渐严重。

目前,现有线路板常用的电磁屏蔽膜包括屏蔽层和导电胶层,屏蔽层通过导电胶层与线路板的地层接触导通。但是,在实施本实用新型过程中,实用新型人发现现有技术中至少存在如下问题:在高温条件下导电胶层中有挥发物,但是屏蔽层比较致密,挥发物难以排出,进而导致屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离,进而导致接地失效,无法将干扰电荷导出。

实用新型内容

本实用新型实施例的目的是提供一种电磁屏蔽膜和线路板,其能够有效地避免现有的电磁屏蔽膜中的导电胶层在高温时挥发物无法通过致密屏蔽层排出,从而能够避免电磁屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离,以确保电磁屏蔽膜接地,进而将干扰电荷导出。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种电磁屏蔽膜,包括屏蔽层和胶膜层,所述胶膜层设于所述屏蔽层上;所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面为非平整表面,所述屏蔽层上设有贯穿其上下表面的通孔。

作为优选方案,所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面包括多个凸部和多个凹陷部,多个所述凸部和多个所述凹陷部间隔设置。

作为优选方案,所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面上设有凸状的导体颗粒。

作为优选方案,所述导体颗粒的高度为0.1μm-30μm。

作为优选方案,所述屏蔽层的厚度为0.1μm-45μm,所述胶膜层的厚度为1μm-80μm。

作为优选方案,所述胶膜层包括含有导电粒子的黏着层;或,所述胶膜层包括不含导电粒子的黏着层。

作为优选方案,所述电磁屏蔽膜还包括保护膜层,所述保护膜层设于所述屏蔽层远离所述胶膜层的一面上。

作为优选方案,所述通孔的面积为0.1μm2-1mm2

作为优选方案,每平方厘米所述屏蔽层中的所述通孔的个数为10-1000个。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州方邦电子股份有限公司,未经广州方邦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821077504.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top