[实用新型]升降可控型碱洗装置有效
申请号: | 201821082320.6 | 申请日: | 2018-07-09 |
公开(公告)号: | CN208589419U | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 税长安 | 申请(专利权)人: | 重庆福税科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 402660 重庆市潼南区工业园区东区C*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碱洗 升降支架 升降 主槽 传动丝杆 平移槽 副槽 滑块 圆腔 本实用新型 碱洗装置 可控型 底面 顶面开口 回流通道 结构设置 举升气缸 螺纹连接 驱动电机 溢流通道 横杆部 循环泵 底壁 底端 竖杆 网兜 承载 | ||
1.一种升降可控型碱洗装置,碱洗主槽和碱洗副槽,在所述碱洗主槽与所述碱洗副槽之间设置有溢流通道和回流通道,其特征在于:在所述碱洗主槽上固定有升降支架,所述升降支架的横杆部延伸至碱洗副槽正上方,在所述升降支架的横杆部底面设置有平移槽,在所述平移槽内设置有传动丝杆,在所述平移槽内设置有滑块,所述滑块螺纹连接在所述传动丝杆上,在所述升降支架的端部固定有与所述传动丝杆相连接的驱动电机,在所述滑块的底面设置有工件承载网兜,在所述碱洗主槽内设置有顶面开口的升降圆腔,所述升降支架的竖杆处于所述升降圆腔内且底端与所述升降圆腔的底壁之间固定有举升气缸,所述溢流通道处于所述碱洗主槽的侧壁顶部,在所述碱洗副槽内设置有循环泵,所述回流通道与所述循环泵相连接。
2.根据权利要求1所述的升降可控型碱洗装置,其特征在于:在所述碱洗主槽的内腔底壁上设置有旋转轴杆,在所述旋转轴杆上设置有旋转叶片,在所述碱洗主槽的底部固定有与所述旋转轴杆相连接的旋转电机,所述工件承载网兜在浸入碱洗主槽内时,通过旋转叶片搅动碱洗液,使碱洗液冲击工件表面完成碱洗操作。
3.根据权利要求2所述的升降可控型碱洗装置,其特征在于:在所述升降支架的竖杆上设置有限位开关,所述升降支架在升降时通过限位开关进行限位,此时工件承载网兜处于碱洗主槽内且底面处于旋转轴杆的上方。
4.根据权利要求3所述的升降可控型碱洗装置,其特征在于:所述旋转轴杆的高度为碱洗主槽内腔深度的1/7,且所述工件承载网兜为金属材料网兜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造