[实用新型]一种分光光度计滤光片有效

专利信息
申请号: 201821085654.9 申请日: 2018-07-10
公开(公告)号: CN208297769U 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 杨鹏;周伟杰 申请(专利权)人: 信利光电股份有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G01N21/31
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 王仲凯
地址: 516600 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 低反射膜 高反射膜 滤光片 分光光度计 玻璃基板 防指纹膜 叠加 本实用新型 高反射膜层 黑色膜层 减反射膜 仪器技术领域 磁控溅射 光度测量 反射率 附着 沉积 校正
【权利要求书】:

1.一种分光光度计滤光片,其特征在于,包括玻璃基板、低反射膜堆和高反射膜堆;

所述低反射膜堆和所述高反射膜堆通过磁控溅射的方式沉积附着到所述玻璃基板的两侧上;

所述低反射膜堆由第一高透防指纹膜层和减反射膜叠加形成;

所述高透防指纹膜层与所述减反射膜沿所述低反射膜堆向高反射膜堆的方向叠加在所述玻璃基板的第一侧;

所述高反射膜堆由黑色膜层、高反射膜层和第二高透防指纹膜层叠加形成;

所述黑色膜层、所述高反射膜层和所述第二高透防指纹膜层沿所述低反射膜堆向高反射膜堆的方向叠加在所述玻璃基板的第二侧;

所述减反射膜的单面反射率为0.01%~0.6%;

所述黑色膜层的单面反射率为0.01%~1%;

所述高反射膜层的单面反射率为96%~100%。

2.根据权利要求1所述的一种分光光度计滤光片,其特征在于,所述黑色膜层通过具有第一折射率的硅膜和具有第二折射率的氧化硅膜叠加形成;

所述硅膜为经过发黑处理的硅膜;

每层所述氧化硅膜均为经过发黑处理的氧化硅膜;

所述第一折射率与所述第二折射率的差值为0.01~0.3。

3.根据权利要求1所述的一种分光光度计滤光片,其特征在于,所述高反射膜层为硅膜、氧化硅膜、二氧化钛膜或五氧化二铌膜中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种分光光度计滤光片,其特征在于,所述第一高透防指纹膜层与第二高透防指纹膜层的厚度均为8nm。

5.根据权利要求1所述的一种分光光度计滤光片,其特征在于,所述减反射膜的厚度为5-200nm。

6.根据权利要求1所述的一种分光光度计滤光片,其特征在于,所述黑色膜层的厚度为5-200nm。

7.根据权利要求1所述的一种分光光度计滤光片,其特征在于,所述高反射膜层的厚度为5-200nm。

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