[实用新型]膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒

权利要求书

1.一种膜层结构，镀制在镜筒表面，其特征在于，包括：

减反膜层(1)，包括交替堆叠的高折射率材料层和低折射率材料层；

防水膜层(2)，沿远离所述镜筒的方向，所述防水膜层(2)设置在所述减反膜层(1)的外侧。

2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述防水膜层(2)镀制在所述低折射率材料层上。

3.根据权利要求2所述的膜层结构，其特征在于，沿着远离所述镜筒的方向，所述减反膜层(1)的结构可以表示为L(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示沿着远离所述镜筒的方向，高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。

4.根据权利要求2所述的膜层结构，其特征在于，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层(1)的结构可以表示为(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。

5.根据权利要求4所述的膜层结构，其特征在于，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层(1)依次包括第一高折射率材料层(11)、第二低折射率材料层(12)、第三高折射率材料层(13)、第四低折射率材料层(14)、第五高折射率材料层(15)和第六低折射率材料层(16)。

6.根据权利要求5所述的膜层结构，其特征在于，所述第一高折射率材料层(11)的厚度为5-25nm、所述第二低折射率材料层(12)的厚度为10-55nm、所述第三高折射率材料层(13)的厚度为20-90nm、所述第四低折射率材料层(14)的厚度为4-25nm、所述第五高折射率材料层(15)的厚度为15-80nm、所述第六低折射率材料层(16)的厚度为30-150nm。

7.根据权利要求1-6任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述高折射率材料层为折射率高于2.0的材料层，选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或钛酸镧中的一种或多种；

所述低折射率材料层为折射率小于1.8的材料层，选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。

8.根据权利要求7所述的膜层结构，其特征在于，所述减反膜层(1)的厚度为150-600nm，反射波长为400-700nm，反射率小于0.7％。

9.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，沿远离所述镜筒方向，所述减反膜层(1)依次包括第一铬的氧化物材料层(1a)和第二二氧化硅材料层(1b)，

所述第一铬的氧化物材料层(1a)的厚度为30-500nm；

所述第二二氧化硅材料层(1b)的厚度为10-200nm。

10.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述防水膜层(2)由氟化物制成，水接触角大于110°，厚度为4-20nm。

11.一种包含权利要求1-10任一项所述膜层结构的镜筒，包括镜筒本体和镀制在所述镜筒本体表面上的膜层结构。