[实用新型]防止晶圆衬底旋转的分子束外延用衬底托板有效
| 申请号： | 201821095559.7 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN208594348U | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 陈意桥;陈超;赵曼曼 | 申请（专利权）人： | 苏州焜原光电有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C23C16/458 |
| 代理公司： | 昆山中际国创知识产权代理有限公司 32311 | 代理人： | 盛建德 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶圆 衬底托板 外环形 衬底 切边 分子束外延 衬底旋转 内环形 边卡 电子元器件 表面杂质 衬底边缘 衬底托 上表面 划痕 卡块 切片 相等 顶住 | ||
【权利要求书】：
1.一种防止晶圆衬底旋转的分子束外延用衬底托板，其特征在于：包括环状的本体，所述本体的中心设有表面低于本体上表面的外环形台以及低于所述外环形台的内环形台，所述内环形台用于托承晶圆衬底，所述外环形台上开有一个宽度与晶圆切边相等的凹槽，所述凹槽内设有一个能接触晶圆切边的切片卡块。
2.根据权利要求1所述的衬底托板，其特征在于：所述切边卡块的水平面投影呈梯形，梯形的顶边长度是底边长度的25-50％，底边比顶边更靠近本体的中心。
3.根据权利要求2所述的衬底托板，其特征在于：所述顶边与所述凹槽的侧壁之间留有缝隙。
4.根据权利要求1所述的衬底托板，其特征在于：所述切边卡块的厚度比外环形台与内环形台的高度差大0.02-0.50mm。
5.根据权利要求1所述的衬底托板，其特征在于：所述内环形台的内边缘在水平面上的投影呈弓形，弓形的直边靠近所述凹槽且长度等于凹槽的宽度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州焜原光电有限公司，未经苏州焜原光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821095559.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：分子束外延系统的进样装置
- 下一篇：液体处理设备
