[实用新型]真空溅镀用新型防着板有效

专利信息
申请号: 201821110822.5 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN208414535U 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 吴树宇;吴定翔 申请(专利权)人: 昆山润阳机械有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 苏州周智专利代理事务所(特殊普通合伙) 32312 代理人: 周雅卿
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 防着板 覆盖板 冷却流道 真空溅镀 凹条 弧面 基板 本实用新型 等间隔分布 沉淀能力 第一表面 散热流道 生产过程 生产效率 条形凸起 相邻凹槽 相邻凹条 金属片 容纳槽 散热盘 冲压 形变 散热 背脊 底面 顶面 凸起 清洗 停工
【说明书】:

实用新型公开了一种真空溅镀用新型防着板,防着板本体包括基板和覆盖板,基板的第一表面设有凹槽,凹槽的底面为弧面,相邻凹槽之间设有第一背脊,凹槽内设有至少一条冷却流道,散热流道的顶面为弧面,冷却流道设有若干散热盘;覆盖板为冲压形成若干相连凹条的金属片,相邻凹条之间形成容纳槽,凹条内设有若干纵向等间隔分布的条形凸起。本实用新型提供一种真空溅镀用新型防着板,不需将整个防着板更换,只需更换覆盖板,节省成本;覆盖板表面设有凹槽和凸起,增加防着板的沉淀能力;再者,设置冷却流道,利于覆盖板的散热,避免覆盖板发生形变,免除生产过程中停工更换或清洗防着板的麻烦,提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及真空溅镀技术领域,具体涉及一种真空溅镀用新型防着板。

背景技术

真空溅镀是由电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,而最终达到对基片表面镀膜的目的。然而,在上述真空溅镀的过程中,因溅镀过程中,材料源随机方向溅射,为保护腔体内其他结构件避免附着、沉积膜层,需使用防着板将需要保护的表面覆盖,以减少附着沉积,防着板使用一定寿命后,更换新防着板。将整张防着板更换,一定程度上增加了溅镀成本,且造成浪费。

现有技术中,所采用的防着板通常为平板状结构。在真空溅镀过程中,靶材原子溅射到防着板后,这些原子的动能将转化成热量,使防着板粘附靶材原子的上表面温度上升,防着板的上表面和下表面将产生温差,防着板将产生形变。形变将使防着板与靶材的背板之间的间距变小,易发生放电。放电将引起工作区域内异常杂质离子增多,严重影响成膜质量。而且,发生放电后,还需要停止运行设备,对该防着板进行清洗或更换,因此,将导致设备的架动率降低进而降低了生产效率。

再者,现有技术中由于其防着板的防着面光滑,因此其沉淀能力不强,一方面溅射出的靶材原子或大尺寸的颗粒仍然会飞向溅镀机的内壁表面,影响其清洁;另一方面由于大尺寸颗粒飞向基片会造成成膜率低的缺陷。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种真空溅镀用新型防着板,将防着板做成可拆卸结构的基板和覆盖板,不需将整个防着板更换,只需将覆盖板进行更换即可,节省生产成本;覆盖板表面设有凹槽和凸起,增加防着板的沉淀能力,进而提高真空腔体内壁的清洁度;再者,在基板与覆盖板之间设置冷却流道,利于覆盖板散热,避免覆盖板在真空溅镀过程中发生形变,免除生产过程中停工更换或清洗防着板的麻烦,提高生产效率。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种真空溅镀用新型防着板,包括防着板本体,所述防着板本体包括基板和覆盖板,所述基板与所述覆盖板可拆卸连接;

所述基板的靠近覆盖板一侧的第一表面设有若干等间隔排布的且为条状的凹槽,所述凹槽的宽度为40-60mm,所述凹槽的底面为弧面,相邻所述凹槽之间设有背脊,所述背脊的上端向上延伸形成截面为倒梯形状的卡边;将凹槽的长度方向定义为横向且宽度方向定义为纵向,所述凹槽内设有至少一条横向排布的冷却流道,所述冷却流道的顶面为弧面,所述冷却流道的宽度为10-20mm且高度为5-15mm,所述冷却流道沿其长度方向等间隔设有若干散热盘,所述散热盘的截面为圆形且直径皆为20-30mm,高度皆为5-15mm;

所述覆盖板为冲压形成若干相连凹条的金属片,所述凹条与所述基板的凹槽的形状相适应,相邻所述凹条之间形成能够容纳背脊的容纳槽,所述基板的背脊卡于所述容纳槽实现基板与所述覆盖板之间的可拆卸连接;所述凹条内设有若干纵向等间隔分布的条形凸起,所述条形凸起的两端分别与所述凹条的宽度方向的两侧连接,所述条形凸起的高度为20-30mm且宽度为10-20mm,相邻所述条形凸起之间的中心距离为50-100mm。

进一步地说,所述卡边的高度为背脊的高度的1/4-1/3。

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