[实用新型]一种旋转吊装平面靶

说明书

一种旋转吊装平面靶，解决现有技术存在的靶基距大，溅射速率低，镀膜成本高，冷却效果差的问题。包括平面靶体和溅射靶材，其特征在于：平面靶体的外侧设置有一侧布置开口的固定屏蔽，平面靶体的上端与旋转轴相连，旋转轴通过转动轴承座与真空室顶壁相连，旋转轴与回转驱动机构相连；旋转轴中部设置的中心通孔内布置有中心进水管，中心进水管的上端设置进水口；中心进水管外壁与旋转轴中心通孔内壁之间设置出水通道；平面靶体磁极板的循环冷却通道的进口，与中心进水管相连，循环冷却通道的出口与出水通道相连。其设计合理，结构紧凑，能够使靶基距最小化，有效提高溅射速率，节省靶材，降低成本；靶体冷却效果好，靶材溅射功率高。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种能够使靶基距最小化，有效提高溅射速率，节省靶材，降低成本；且靶体冷却效果好，靶材溅射功率高的旋转吊装平面靶。

背景技术

现有装饰品的颜色以黄金色、玫瑰金色为主；以往的装饰品表面是利用真空镀膜方法镀一层仿金颜色的氮化钛，而为了进一步提高装饰品的精饰效果，需要在氮化钛表面镀一层真黄金或玫瑰金，以使色彩更加艳丽，并同时提升饰品的耐摩擦、耐腐蚀性能，延长膜层的使用寿命，使首饰表面能够长时间保持靓丽光泽、且无需清洗。装饰品的掺金镀膜一般采用磁控溅射的方式，并且，需要使用纯金靶材，为了易于靶材的制备，纯金靶材通常制作成平面靶的结构形式。

但是，由于整个镀膜过程中镀纯金膜层是最后一道工序，所以，在镀其他材料的膜层时，金靶表面要进行遮挡，以防止靶面污染，否则将影响成膜的质量。现有的遮挡方式是采用旋转屏蔽来遮挡靶面，然而，具有回转结构的旋转屏蔽，其回转直径要远大于平面靶的直径，故导致靶基距（靶材与工件表面的距离）增大。较大的靶基距会降低溅射的速率，从而提升镀膜成本。另外，现有靶体的冷却系统冷却效果差，严重削弱靶材的溅射功率。故有必要对现有的吊装平面靶予以改进。

实用新型内容

本实用新型就是针对上述问题，提供一种能够使靶基距最小化，有效提高溅射速率，节省靶材，降低成本；且靶体冷却效果好，靶材溅射功率高的旋转吊装平面靶。

本实用新型所采用的技术方案是：该旋转吊装平面靶包括平面靶体，平面靶体内部设置有磁极板，磁极板上设置有永磁体，永磁体前侧的平面靶体上设置有溅射靶材，其特征在于：所述平面靶体的外侧设置有筒状的固定屏蔽，固定屏蔽的一侧设置有开口；所述平面靶体的上端与旋转轴相连，旋转轴通过转动轴承座与真空室顶壁的外侧相连，且旋转轴与回转驱动机构相连；所述旋转轴的中部设置有沿轴线布置的中心通孔，中心通孔内设置有中心进水管，中心进水管的上端设置有进水口；中心进水管的外壁与旋转轴中心通孔的内壁之间设置有出水通道，出水通道的上端设置有出水口；所述平面靶体的磁极板内部设置有竖直布置的循环冷却通道，循环冷却通道的进口与旋转轴中部的中心进水管相连，循环冷却通道的出口则与旋转轴内的出水通道相连。

所述平面靶体内部的磁极板与溅射靶材之间设置有冷却腔，所述磁极板内的循环冷却通道的下部与冷却腔相连，且冷却腔的上部与循环冷却通道的出口相连。以使冷却腔内充满循环冷却水，进而让溅射靶材在工作过程中充分冷却，进一步提高靶材表面的溅射功率。

所述与旋转轴相连的回转驱动机构，包括设置在真空室顶壁外侧支撑座上的旋转气缸，旋转气缸的气缸转轴上设置有主动齿轮，主动齿轮与所述旋转轴上设置的从动齿轮相啮合。以通过旋转气缸驱动主动齿轮带动从动齿轮旋转，进而使旋转轴以及其下端连接的平面靶体一同转动，从而在真空镀膜设备进行其他前序镀膜工艺时，将掺金镀膜平面靶体的靶面旋转180度，以被固定屏蔽遮挡，防止靶材表面污染，提高膜层质量。

所述平面靶体上端设置的旋转轴的顶部外壁上，布置有水密封油封。以防止经由出水通道排出到出水口处的冷却水的渗漏，提升密封效果，确保使用安全。

所述平面靶体外侧设置的筒状固定屏蔽的材料为不锈钢。

所述平面靶体内部设置的磁极板的材料为纯铁或低碳钢。