[实用新型]一种狭缝型挤压式涂布设备及其基底平台有效

专利信息
申请号: 201821119360.3 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN208643163U 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 黎星宇;毕恩兵;陈汉 申请(专利权)人: 上海黎元新能源科技有限公司
主分类号: B05C11/10 分类号: B05C11/10;B05C13/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;董于虎
地址: 201400 上海市奉贤*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基底平台 排液槽 挤压式涂布 平台本体 倾斜侧壁 排液孔 负压 狭缝 运动方向垂直 膜厚均匀度 基底端部 上表面 涂布头 涂布液 内凹 薄膜 堆积 申请
【说明书】:

本申请提供了一种狭缝型挤压式涂布设备及其基底平台,基底平台包括:平台本体;所述平台本体上表面内凹形成的第一排液槽,所述第一排液槽与涂布头运动方向垂直,并具有至少一个倾斜侧壁;所述第一排液槽的底部设置有负压排液孔。该方案通过在基底平台上设置带有倾斜侧壁且底部设置有负压排液孔的第一排液槽,从而有利于使至少部分堆积于基底端部的过多涂布液排走,因此,可改善薄膜的膜厚均匀度。

技术领域

本说明书涉及一种狭缝型挤压式涂布设备及其基底平台。

背景技术

目前,狭缝型挤压式涂布(slot die coating)已被广泛应用于光学薄膜领域制造中,特别是薄膜太阳能电池,之所以能快速发展得益于其涂布速度快、涂膜均匀性好、涂布窗口宽等优点。但在实际的涂布当中,狭缝型挤压式涂布技术涂布出的薄膜受排液的影响,部分溶液容易堆积在基底端部(尤其是尾端),如果不能及时排除,将会回流到之前涂布的部分,由于干燥的时间不同,将会导致前后薄膜的厚度不一致,对成膜质量造成严重影响。

实用新型内容

本说明书的目的是提供一种可改善膜厚均匀度的狭缝型挤压式涂布设备及其基底平台。

为实现上述目的,一方面,本说明书提供一种狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,包括:平台本体;所述平台本体上表面内凹形成的第一排液槽,所述第一排液槽与涂布头运动方向垂直,并具有至少一个倾斜侧壁;所述第一排液槽的底部设置有负压排液孔。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述倾斜侧壁的倾角为20°-80°。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述倾斜侧壁的倾角为25°-75°。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述第一排液槽至少为两条。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述第一排液槽中设置有分隔挡板;所述分隔挡板的顶端不超出所述第一排液槽。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述分隔挡板的底端延伸至所述负压排液孔的顶部。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述分隔挡板的底端设置有通孔。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述基底平台还包括所述平台本体上表面内凹形成的第二排液槽,所述第二排液槽与涂布头运动方向平行,且具有至少一个倾斜侧壁;所述第二排液槽的底部设置有负压排液孔。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,第二排液槽的倾斜侧壁的倾角为20°-80°。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,第二排液槽的倾斜侧壁的倾角为25°-75°。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,该基底平台还包括用于减少基底背面污染的防污染组件;所述防污染组件包括至少一个挡液部和用于吸固基底的吸固件;所述挡液部紧贴于所述第一排液槽和/或第二排液槽的内侧设置,包括弹性挡液条和由所述平台本体内凹形成的弹性挡液条容置区;所述吸固件吸固基底时,基底在吸固件和/或弹性挡液条的支撑下可平行于所述平台本体,并且,弹性挡液条的顶端不低于平台本体的上表面。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述分隔挡板的顶端高于吸固件吸固基底时弹性挡液条的顶端。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,该基底平台包括至少一个由两个第一排液槽和两个第二排液槽围成的用于放置基底的定位区。

在上述狭缝型挤压式涂布设备的基底平台,优选地,所述定位区中的吸固件为负压气孔,用于使放置基底后的定位区在弹性挡液条的圈闭下形成负压环境,从而使吸固件在不直接与基底接触的状态下固定基底。

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