[实用新型]刻划轮有效

专利信息
申请号: 201821124816.5 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN208649130U 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 岩坪佑磨;富本博之;木山直哉;泉本聪也;小森正雄;饭泽一马 申请(专利权)人: 三星钻石工业股份有限公司
主分类号: C03B33/10 分类号: C03B33/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 肖茂深
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 刻划轮 中心轴 槽部 刃部 本实用新型 垂直裂纹 方向观察 凸出的 外周缘 凹陷 基板 深部 平行
【说明书】:

本实用新型的目的在于提供一种能够在基板上更深且更好地形成垂直裂纹的刻划轮。刻划轮(100)具备:多个刃部(101),它们沿着刻划轮的外周缘形成;以及多个槽部(102),它们设置于周向上相邻的刃部(101)之间,且向中心轴(L0)侧凹陷。在槽部(102)中,在沿着与中心轴(L0)平行的方向观察时,相对于最深部而位于周向的两侧的部分形成为向远离中心轴(L0)的方向凸出的形状。

技术领域

本实用新型涉及用于在玻璃基板等脆性材料基板上形成刻划线的刻划轮。

背景技术

玻璃基板等脆性材料基板的截断是通过在基板表面上形成刻划线的刻划工序和沿着形成的刻划线截断基板的断开工序来进行的。在刻划工序中,一边将刻划轮压靠于基板表面,一边使其沿着规定的线移动。由此,使刻划轮在基板表面上滚动,从而形成刻划线。

以下的专利文献1中记载了在外周棱线以规定间距形成有多个槽的刻划轮。通过使用该结构的刻划轮,在刚开始刻划后,就能够在基板上可靠地形成垂直裂纹,并且能够形成较深的垂直裂纹。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平09-188534号公报

实用新型内容

实用新型要解决的课题

在使用上述结构的刻划轮的情况下,通过在基板表面以规定间距间歇地形成凹痕,并使在凹痕正下方形成的垂直裂纹连接,从而形成刻划线。在该情况下,凹痕间的间隔越窄,则在凹痕位置形成的垂直裂纹越容易连接,另外,在垂直裂纹更深地伸展的情况下,能够形成更好的刻划线。

鉴于该课题,本实用新型的目的在于提供一种能够在基板上更深且更好地形成垂直裂纹的刻划轮。

用于解决课题的方案

本实用新型的主要方式涉及用于在基板上形成刻划线的刻划轮。该方式的刻划轮具备:多个刃部,它们沿着所述刻划轮的外周缘形成;以及多个槽部,它们设置于周向上相邻的所述刃部之间,且向中心轴侧凹陷。在此,在所述槽部中,在沿着与所述中心轴平行的方向观察时,相对于最深部而位于所述周向的两侧的部分形成为向远离所述中心轴的方向凸出的形状。

根据本方式的刻划轮,当刻划轮在基板表面上滚动时,刃部附近的部分咬入基板,在基板表面形成凹痕。此时,由于槽部具有上述形状,所以刃部附近的咬入基板的部分的范围在周向上变大。因此,在基板上形成的凹痕的间隔变窄,在凹痕位置形成的垂直裂纹变得容易连接。另外,由于刃部附近的咬入基板的部分的体积变大,所以能够在凹痕位置使垂直裂纹更深地伸展。因而,根据本方式的刻划轮,能够在基板上更深且更好地形成垂直裂纹。

在本方式的刻划轮中,也可以为,在所述槽部中,在沿着与所述中心轴平行的方向观察时,相对于所述最深部而位于所述周向的两侧的部分形成为曲线形状。于是,伴随着刻划轮的滚动,槽部平滑地咬入基板。因而,能够在基板上顺利地形成垂直裂纹。

本方式的刻划轮可以构成为,在所述周向上相邻的所述槽部之间存在有沿着所述周向延伸的所述刃部的棱线。于是,由于刃部在周向上具有规定的宽度,所以咬入基板的刃部附近的部分的体积变得更大。因而,能够在基板上更深地形成垂直裂纹。

在本方式的刻划轮中,可以构成为,所述槽部由在沿着所述周向观察时向远离所述中心轴的方向凸出的曲面构成,所述曲面的曲率半径从所述槽部的所述周向的边界朝向所述槽部的所述最深部而逐渐变大。根据该结构,由于槽部由向远离刻划轮的中心轴的方向凸出的曲面构成,所以在刻划轮滚动而槽部与基板相对时,不会出现槽部内的尖锐的棱线较深地咬入基板的情况。因此,能够抑制由于槽部与基板抵接而产生碎片。

实用新型效果

如上所述,根据本实用新型,能提供一种能够利用简单的结构在基板上更深且良好地形成垂直裂纹的刻划轮。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星钻石工业股份有限公司,未经三星钻石工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821124816.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top