[实用新型]上引炉的铜料处理装置以及上引炉

权利要求书

1.一种上引炉的铜料处理装置，其特征在于，包括依次设置的上下除杂机构以及四边除杂机构，所述上下除杂机构用于去除铜料上下表面的杂质，所述四边除杂机构用于去除铜料四个侧边的杂质；所述上下除杂机构包括能够移动的上磨辊和下磨辊，上磨辊用于对铜料的上表面进行打磨，下磨辊用于对铜料的下表面进行打磨。

2.如权利要求1所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述上下除杂机构还包括：

第一机架；

多个第一输送辊，转动安装在第一机架上，用于支撑并输送铜料；

第一驱动电机，固定在第一机架上，用于驱动第一输送辊转动；

竖直轨道，设置在第一机架上；

上滑座，滑动设置在竖直轨道上，上滑座位于相邻的两个第一输送辊之间，且位于第一输送辊的上方，所述上磨辊转动安装在上滑座上，上滑座上还包括驱动上磨辊转动的第一磨辊电机；

第一气缸，安装在第一机架上，第一气缸的活塞杆与上滑座固定，用于驱动所述上滑座上下移动；

下滑座，滑动设置在竖直轨道上，上滑座位于相邻的两个第一输送辊之间，且位于第一输送辊的下方，所述下磨辊转动安装在下滑座上，下滑座上还包括驱动下磨辊转动的第二磨辊电机；

第二气缸，安装在第一机架上，第二气缸的活塞杆与下滑座固定，用于驱动所述下滑座上下移动。

3.如权利要求2所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述机架在第一输送辊两侧的上方转动安装有限位辊，各限位辊竖直设置。

4.如权利要求1所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述四边除杂机构包括：

第二机架；

第二输送辊，转动安装在第二机架上，用于支撑并输送铜料，第二输送辊的上部突出所述第二机架，铜料输送至第二输送辊后，铜料的四个侧边均位于第二机架的外侧；

第二驱动电机，固定在第二机架上，用于驱动第二输送辊转动；

上定位气缸，位于第二输送辊的上方，上定位气缸的活塞杆上固定有上定位板；

下定位气缸，固定在第二机架上，位于第二输送辊的下方，下定位气缸的活塞杆上固定有下定位板，上定位板和下定位板相对设置，且均位于相邻两个第二输送辊之间，上定位气缸和下定位气缸用于在铜料输送到位后，驱动对应的定位板移动，使上定位板和下定位板将铜料压紧定位住；

两个分别位于第二机架两侧的侧边打磨组件，侧边打磨组件用于在铜料定位住后，对铜料的侧边进行打磨；

转动电机，转动电机的输出轴与第二机架的下端固定，用于在铜料的两个侧边打磨后，驱动第二机架转动90°，使两个侧边打磨组件能够打磨铜料剩下的两个侧边。

5.如权利要求4所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述侧边打磨组件包括：

水平板，设置在机架的一侧；

水平轨道，设置在水平板上；

丝杆，转动安装在水平板上；

螺母块，滑动设置在所述水平轨道上，且螺母块与丝杆螺纹配合；

丝杆驱动电机，用于驱动所述丝杆转动；

侧边打磨辊，转动安装在螺母块上，用于打磨铜料的侧边；

侧边打磨电机，用于驱动侧边打磨辊转动；

打磨控制气缸，打磨控制气缸的活塞杆与水平板固定，用于驱动水平板靠近和远离第二机架。

6.如权利要求5所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述水平轨道为第一梯形槽，所述螺母块上具有与梯形槽相适配的第一滑块。

7.如权利要求2所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述竖直轨道为第二梯形槽，所述上滑座和下滑座均包括与第二梯形槽相适配的第二滑块。