[实用新型]一种多层共挤抗静电保护膜

说明书

本实用新型公开了一种多层共挤抗静电保护膜，依次包括表层、芯层和自粘层，表层、芯层和自粘层中任意的一层、两层或者三层均匀分布有石墨烯；表层、芯层及自粘层通过多层共挤设备挤出，且表层、芯层及自粘层通过挤出机模头分配器合并在一起最终成膜。本实用新型工艺简单，无需涂布抗静电剂，节省了人工成本并降低了膜因多道工序导致二次污染的概率；无需涂布，不会因胶水中的有机溶剂引起环境污染，同时不需要高温烘干溶剂，节降了制膜的能源消耗；石墨烯在薄膜中存在稳定，极大程度减少了迁移导致被贴物表面污染的风险；通过调节石墨烯在各层中的分布和含量，得到不同的抗静电效果。

技术领域

本实用新型涉及一种多层共挤抗静电保护膜，属于功能膜材料技术领域。

背景技术

现今工业制造技术快速发展，电子产品逐渐向着轻薄、柔性和可穿戴等方向发展。这样使得产品中的光学膜片更加轻薄、电子器件集成度更高，因此在制造和运输过程中格外需要保护膜进行保护，与此同时，洁净度质量的要求也越来越高。普通的保护膜未经过抗静电处理，由于高分子材料特性，导致静电积累，在使用过程中会产生危害，如吸附微尘(污染光学器件表面)、静电放电击穿微电子元件等，后果不堪设想。

基于以上，保护膜行业逐渐研发出各种的抗静电保护膜：

a) 将抗静电剂添加到保护膜压敏胶中，制备抗静电保护膜。专利CN 103788886A，“OGS 制程用抗静电耐酸保护膜”通过将抗静剂添加至压敏胶中制备抗静电压敏胶，将压敏胶均匀涂布于基材上，制备得到表面阻抗2.09*10¹⁰Ω的抗静电保护膜。专利CN103614090 A，“一种防静电压敏胶保护膜及其制备方法”通过将电解质基聚合物和纳米线导电材料协同复配至压敏胶中，制备得到抗静电保护膜。专利CN 104531039 A，“一种聚氨酯压敏胶组合物及保护膜的制备方法”通过将抗静电剂加入聚氨酯胶水中，制备抗静电保护膜。

b) 在基材上预先涂覆抗静电涂层，再涂覆压敏胶，制备抗静电保护膜。专利CN104559688 A，“一种抗静电的高分子保护膜”通过将水性导电高分子聚噻吩涂布于保护膜的背面，得到抗静电保护膜。专利CN 104441880 A，“一种防蓝光抗静电保护膜”通过将自行制备的抗静电胶液涂布于基材上，得到具有抗静电效果的保护膜。

由上可见，近年来关于抗静电保护膜的报道较多，但基本都是将抗静电剂通过涂布的方式与薄膜结合。将抗静电剂与压敏胶共混后涂布制备抗静电保护膜，可能会面临保护膜在高温环境下使用，抗静电剂迁移析出，导致光学膜片表面污染的风险。同时，抗静电剂首先预涂与基材表面制备抗静电保护膜，额外增加一道涂布工艺，工艺复杂且增加了污染风险；进一步，传统的水性抗静电剂容易受湿度影响，无法得出稳定的表面电阻数值，当湿度大，表面电阻值良好可达标准，当湿度小，表面电阻值会迅速升高，甚至无法起到抗静电效果。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种生产工艺简单、抗静电性能优越、污染低的基于多层共挤成膜技术的石墨烯保护膜。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种多层共挤抗静电保护膜，其特征在于，依次包括表层、芯层和自粘层，所述表层、芯层和自粘层中任意的一层、两层或者三层均匀分布有石墨烯。

优选地，所述表层的厚度为5～80μm。

优选地，所述表层和芯层的材质为聚乙烯（PE）或者聚丙烯（PP）。

优选地，所述芯层的厚度为10～100μm。

优选地，所述自粘层的材质为乙烯/醋酸乙烯酯共聚物（EVA）、茂金属聚乙烯或者橡胶。

优选地，所述自粘层的厚度为5～20μm。

本实用新型所达到的有益效果：